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          電源產品的趨勢與創(chuàng)新

          作者: 時間:2010-02-05 來源:電子產品世界 收藏

            低壓方案

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/105934.htm

            低壓傳統上指MOSFET工作在200V及以下,通常是多芯片模塊(MCM)和負載開關產品,現在業(yè)界把“中功率IC產品”也納入其中。創(chuàng)新的MLP(低功耗)產品有多種小型化封裝方案,使傳統的SO-8趨向于雙3mm×3mm,D-Pak趨向于Power56和Power33,Power56趨向Power33,Power33趨向Power22方案,而能效、功率密度更佳,EMI更小。今后低壓MOSFET將在應用方案、Trench(溝槽) MOSFET技術、線性IC設計和封裝方面等繼續(xù)創(chuàng)新。

            功率研討會上的新產品和新觀念:SuperFET向SupreMOS轉化

            在09年12月初美國的Asiapress功率研討會上,離線(Off-line)電源的全球技術市場推廣經理Van Niemela介紹了該公司的幾項創(chuàng)新技術:(1)SupreMOS技術,相比SuperFET(圖4),有更低的RDS(ON)、更低的輸入電容;(2)臨界導通模式交錯式PFC控制器可提高能效,具有相位管理、低谷開關技術等,典型產品如FAN9612;(3)ORing FET打破了在5mm×6mm印腳(Footprint)時RDS(ON) 1mW的最低記錄,典型產品如FDMS7650。

            美國EDN雜志執(zhí)行編輯Ron Wilson在主持會議時說,目前服務器農場(Farmer)和基站是最受關注的耗能大戶。另外,家庭待機功耗、照明、便攜式產品等也是節(jié)能關注的熱點。

            Altera Hardcopy ASIC部門高級總監(jiān)Dave Greenfield說,為了降低功耗,需要在芯片、軟件和系統級方面創(chuàng)新:(1)芯片方面,要平衡制程技術,例如更低的核心電壓通常可以降低動態(tài)功耗,制程的提高不能對降低靜態(tài)功耗(漏電流)有幫助,但可以通過其他技術來降低功耗;(2)芯片要采用多種設計技術,需要精確地預估關鍵的起始點,功率驅動的綜合更重要,而過去較關注的卻是性能和密度;(3)系統級方面,例如DDR3雖然性能比DDR2性能強大,但是功耗卻更低。



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