我國首臺自主知識產(chǎn)權(quán)12英寸半導(dǎo)體設(shè)備進入韓國市場

　　位于上海浦東張江高科技園區(qū)的盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司12英寸45納米半導(dǎo)體單片清洗設(shè)備，11日正式啟運運往韓國知名存儲器廠商海力士，這也是國內(nèi)首臺具有自主知識產(chǎn)權(quán)的高端12英寸半導(dǎo)體設(shè)備進入韓國市場。

　　盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司首席執(zhí)行官王暉博士介紹說，這臺設(shè)備作為量產(chǎn)設(shè)備，裝備了8個獨立的清洗腔，并運用全球獨有的、具有自主知識產(chǎn)權(quán)的SAPS兆聲波(空間交變相移技術(shù))，最大產(chǎn)出率可達到每小時 400片，為45納米和32納米節(jié)點硅片清洗提供了高效、零損傷的顆粒及污染去除方案。

　　當(dāng)今半導(dǎo)體清洗技術(shù)中的最大難題是對機械損傷和去除效率的控制。隨著半導(dǎo)體芯片體積的不斷縮小，影響硅片良率的粒子也越來越小，顆粒越小則越難清洗;同時，45納米以下芯片的門電極與電容結(jié)構(gòu)越來越脆弱，在清洗中避免損傷芯片微結(jié)構(gòu)的難度也在不斷加大。

　　兆聲波技術(shù)能夠通過氣穴振蕩來推動微顆粒離開硅片表面，但技術(shù)難點在于如何控制兆聲波在硅片表面的能量。王暉博士介紹說，由盛美半導(dǎo)體自主研發(fā)的SAPS兆聲波技術(shù)，利用空間交變相移原理可以對兆聲波的能量進行精確控制，將12英寸硅片面內(nèi)兆聲波非均勻度控制在2%以內(nèi)，一舉解決了困擾業(yè)界多年的棘手問題。