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          日本電鍍工程自9月8日起開(kāi)始提供全球第一個(gè)液晶驅(qū)動(dòng)IC封裝技術(shù)電鍍液

          作者: 時(shí)間:2010-09-07 來(lái)源:電子產(chǎn)品世界 收藏

            貴金屬集團(tuán)(總公司:千代田區(qū)丸之內(nèi),董事長(zhǎng):岡本英彌)發(fā)表以下新技術(shù)的資訊。貴金屬集團(tuán)旗下發(fā)展電鍍事業(yè)的Electroplating Engineers of Japan Ltd.(總公司:神奈川縣平冢市,董事長(zhǎng)(代表取締役社長(zhǎng)):內(nèi)藤和正,以下簡(jiǎn)稱EEJA)自2010年9月8日(星期三)起開(kāi)始提供凸塊形成※1用的中性鈀電鍍液「MICROFAB Pd 系列」。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/112448.htm

            「MICROFAB Pd 系列」是以往無(wú)法實(shí)現(xiàn)pH7.0中性電解制程的鈀電鍍液,它可以運(yùn)用在液晶面板上的驅(qū)動(dòng)(Driver)IC的封裝技術(shù)上面。這是為了取代歴來(lái)主流的電解金電鍍成為中性電解鈀電鍍,然后在尋求減少貴金屬原料金屬75%成本※2的同時(shí),也能夠?qū)?yīng)IC的細(xì)微(fine pitch)化。

            【以往市場(chǎng)主流的金凸塊的課題,以及在使用鈀遇到的障礙】

            現(xiàn)在IC的晶圓凸塊制程以鍍金技術(shù)為主流。然而,最近幾年由于金塊的市場(chǎng)價(jià)格突然高漲,因此在液晶面板的市場(chǎng)中,對(duì)于驅(qū)動(dòng)IC封裝進(jìn)行成本低減是當(dāng)務(wù)之急。另外,隨著液晶面板的高精細(xì)化,驅(qū)動(dòng)IC用凸塊的細(xì)微化也同時(shí)被要求,在接合時(shí)為了不使凸塊壓壞與旁邊接觸,必須要使用更高硬度的貴金屬來(lái)形成凸塊,自以前開(kāi)始就關(guān)注到利用比黃金更便宜且具有高硬度的鈀來(lái)制作。然而,以往的鈀電鍍具有強(qiáng)堿性,由于在上光阻※3時(shí)會(huì)受到傷害,因此對(duì)于上了光阻后的晶圓來(lái)說(shuō)很難形成凸塊。

            【全球首次,利用鈀形成凸塊】

            「MICROFAB Pd 系列」是EEJA獨(dú)自開(kāi)發(fā)的在中性范圍內(nèi)且具穩(wěn)定的鈀化合物及同樣是中性范圍內(nèi)且效果好的添加劑,它將以往不可能以pH7.0中性制程來(lái)形成凸塊變成了可能,成為全球第一個(gè)※4中性電解鈀電解液。這個(gè)技術(shù)有以下幾個(gè)特點(diǎn),客戶不用換掉現(xiàn)有的電鍍裝置,就可以得到成本以及性能上的重大的改善。

            - 透過(guò)替代鍍金,可以達(dá)到75%貴金屬原料金屬的成本低減

            - 硬度比黃金還高,可以形成輪廓清晰且平坦的凸塊??蓪?duì)應(yīng)驅(qū)動(dòng)IC的細(xì)微化

            - 由于是pH7.0的中性制程,可以對(duì)于已上了光阻的晶圓進(jìn)行凸塊電鍍

            - 由于沒(méi)有阿摩尼亞的臭味,改善了以往電鍍時(shí)具有強(qiáng)烈阿摩尼亞臭味的作業(yè)環(huán)境

            EEJA將「MICROFAB Pd 系列」針對(duì)半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)公司,以一年1憶2000萬(wàn)日?qǐng)A的業(yè)績(jī)?yōu)殇N售目標(biāo)。今后更會(huì)將這個(gè)中性電解鈀電鍍制程擴(kuò)大運(yùn)用在印刷電路板及耐強(qiáng)堿性差的材料,加強(qiáng)對(duì)其產(chǎn)品細(xì)微化以及實(shí)現(xiàn)降低成本的服務(wù)提供上。

            另外,EEJA在即將來(lái)到的9月8日(星期三)到10日(星期五)為止,于臺(tái)北世界貿(mào)易中心(臺(tái)灣臺(tái)北市)舉辦的「2010國(guó)際半導(dǎo)體展」展出。在敝公司的展示攤位(No.1126)上,除了介紹「MICROFAB Pd 系列」之外,展場(chǎng)駐點(diǎn)的技術(shù)人員也可以接受您的采訪。



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