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          Vishay發(fā)布新款QPL氮化鉭薄膜片式電阻

          —— 器件具有0.1%的容差和25ppm/℃的TCR
          作者: 時(shí)間:2012-11-02 來(lái)源:電子產(chǎn)品世界 收藏

            日前, Intertechnology, Inc.(NYSE 股市代號(hào):VSH)宣布,推出通過(guò) MIL-PRF-55342測(cè)試的新款表面貼裝片式---E/H (Ta2N) ,保證可靠性達(dá)到100ppm的“M”級(jí)失效率。新的E/H (Ta2N) 使用耐潮的氮化鉭膜技術(shù)制造,為國(guó)防和航天應(yīng)用提供了增強(qiáng)的性能規(guī)格,包括0.1%的容差和25ppm/℃的TCR?! ?/p>本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/138454.htm

           

            E/H (Ta2N) QPL電阻適用于國(guó)防和航天應(yīng)用的控制系統(tǒng),這些應(yīng)用需要考慮在潮濕條件下工作或長(zhǎng)期的儲(chǔ)存問(wèn)題。器件的氮化鉭電阻膜可確保耐潮水平超過(guò)MIL-PRF-55342限值的50倍。

            E/H (Ta2N) Mil-PRF-55342薄膜電阻具有不到-25dB的極低噪聲和0.5ppm/V的電壓系數(shù)。電阻的卷繞式端接采用了一個(gè)粘性很強(qiáng)的粘合層,上面覆蓋的電鍍鎳柵層可適應(yīng)+150℃的工作條件,對(duì)典型電阻的影響小于0.010?。

            新電阻采用01至12的M55342外形尺寸,功率等級(jí)為50mW~1000mW,工作電壓為40V~200V,根據(jù)不同的容差,阻值范圍為49.9?~3.3M?。

            E/H (Ta2N) Mil-PRF-55342薄膜電容器現(xiàn)已量產(chǎn),供貨周期為八周到十周。

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