NI PXI矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀助半導(dǎo)體移動設(shè)備制造商降低測試成本
—— NI PXI矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀幫助半導(dǎo)體和移動設(shè)備制造商降低測試成本
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美國國家儀器公司(National Instruments, 簡稱 NI)近日發(fā)布了NI NI PXIe-5632 VNA，它經(jīng)進(jìn)一步優(yōu)化，可幫助工程師滿足日益復(fù)雜的射頻測試要求，而其成本、尺寸和使用所需時間僅是傳統(tǒng)堆疊式解決方案的極小一部分。 新的PXIe VNA基于創(chuàng)新型的雙源架構(gòu)，頻率范圍為300 kHz至8.5 GHz，擁有獨(dú)立調(diào)整的源代碼和源接入循環(huán)，可適用于眾多不同的測量應(yīng)用。
本文引用地址：http://www.ex-cimer.com/article/139694.htm
“NI在射頻和微波儀器上持續(xù)大力投入，將PXI的應(yīng)用領(lǐng)域擴(kuò)大至高端應(yīng)用。”NI射頻研究和開發(fā)副總裁Jin Bains表示， “NI PXIe-5632矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀功能豐富，可顯著降低網(wǎng)絡(luò)測量成本，尤其是針對那些需要高度精確、快速和小封裝測量的大批量自動化測試的應(yīng)用。”
產(chǎn)品特征
- 雙端口，3槽PXI Express矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀，頻率范圍為300 kHz至8.5 GHz 。
- 功率范圍較寬，為-30dBm到+15 dBm，調(diào)節(jié)步長為0.01dB，用于測量有源設(shè)備的壓縮和S-參數(shù)。
- 帶有源接入循環(huán)的雙源架構(gòu)，可實現(xiàn)脈沖S參數(shù)測量和擴(kuò)展源功率范圍。
- 頻偏功能使用獨(dú)立調(diào)整的源代碼，實現(xiàn)對頻率轉(zhuǎn)換器件和熱S-參數(shù)的測量。
- 通過NI LabVIEW、ANSI C和.NET等行業(yè)領(lǐng)先的編程接口，可簡化編程并加快測試開發(fā)速度，同時保證射頻測量質(zhì)量。
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