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          Gigaphoton將LPP EUV光源輸出端最大等效功率提升至20W級(jí)別

          —— 此次的成果標(biāo)志著預(yù)生產(chǎn)極 EUV光源發(fā)展過程中的一個(gè)新里程碑
          作者: 時(shí)間:2013-02-20 來源:electroiq 收藏

            公司18日宣布已經(jīng)成功將LPP 產(chǎn)品的輸出端等效最大功率推進(jìn)到了20W水平。該公司達(dá)成這個(gè)目標(biāo)所使用的方法是,使用固態(tài)預(yù)脈沖激光器,100khz頻率的CO2激光來轟擊錫靶標(biāo)。采用這種方法,該公司在光源運(yùn)行過程中達(dá)成了平均 10W水平的輸出功率。由于目前普遍認(rèn)可的預(yù)生產(chǎn)型商用輸出功率級(jí)別正好在10W左右,因此公司此次的成果標(biāo)志著預(yù)生產(chǎn)極 發(fā)展過程中的一個(gè)新里程碑。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/142110.htm

            

           

           

            公司自2002年起便專注于高輸出功率,經(jīng)濟(jì)型LPP光源的研發(fā)。幾年來該公司研發(fā)出了許多相關(guān)的技術(shù),包括錫液滴尺寸低于20um水平的按需式錫液滴生成技術(shù),以及融合了短波長固態(tài)預(yù)脈沖激光器技術(shù),CO2激光技術(shù),以及磁場(chǎng)式雜質(zhì)消除技術(shù)在內(nèi)的LPP EUV激光光源技術(shù)。

            Gigaphoton透露,與這款LPP光源技術(shù)相關(guān)的信息將在本月24-28日召開的SPIE2013高級(jí)光刻技術(shù)年會(huì)(SPIE Advanced Lithography 2013)上公開,這次年會(huì)將在美國加州圣何塞市召開。



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