分析半導體照明專利保護現(xiàn)狀及應對之策
在眾多研究機構(gòu)和企業(yè)的長期努力下,經(jīng)過數(shù)十年的技術(shù)蓄積和產(chǎn)業(yè)化摸索,半導體照明產(chǎn)業(yè)在近年來開始進入爆發(fā)式增長時期,無論技術(shù)還是市場都進入了高速發(fā)展階段。特別令人鼓舞的是,半導體照明技術(shù)是一種具有戰(zhàn)略意義的綠色照明技術(shù),不僅對全球范圍的節(jié)能減排具有深遠的積極影響,而且已逐漸引發(fā)出一個引人注目的新興產(chǎn)業(yè)而形成新的經(jīng)濟增長點,未來前景也被廣泛看好,因而備受世界各國的重視和支持。
本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/153229.htm在我國,半導體照明產(chǎn)業(yè)在近五年的發(fā)展尤為迅猛。從公開數(shù)據(jù)來看,市場規(guī)模年均增長在20%以上,市場競爭已變得日益激烈。特別是在市場全球化的背景下,以日亞化學、豐田合成、科銳、飛利浦、歐司朗等為代表的國外產(chǎn)業(yè)巨頭對半導體照明技術(shù)的控制也愈加凸顯,中小企業(yè)的生存空間被進一步壓縮。在這種情況下,知識產(chǎn)權(quán),特別是專利權(quán)已成為各方競爭博弈的重要手段。
專利保護制度源自西方發(fā)達國家,在歐美等發(fā)達國家的多年實踐下已成為先進工業(yè)技術(shù)最重要的保護方式之一,也是很多跨國公司獲取超額利潤的重要方式之一。但在我國,專利制度雖然也已建立多年,但對于普通民眾而言還是相對陌生的事物。因此,在國際產(chǎn)業(yè)巨頭進行專利封鎖時,國內(nèi)企業(yè),特別是中小企業(yè)常常會面臨茫然失措、力不從心的窘境。
一、我國企業(yè)的產(chǎn)業(yè)技術(shù)和專利保護現(xiàn)狀
在我國,半導體照明產(chǎn)業(yè)從外延片、芯片的制造到封裝以及燈具等下游應用產(chǎn)品的制造已經(jīng)形成了完整的產(chǎn)業(yè)鏈,但是在核心技術(shù)上,特別是上、中游的核心技術(shù)上卻仍未有顯著提升,而且其中僅有少部分通過專利形式進行了保護。而與此相比,國外產(chǎn)業(yè)巨頭大多已先后完成了技術(shù)積累向產(chǎn)業(yè)擴張的轉(zhuǎn)變,實現(xiàn)了跨越性發(fā)展,這些企業(yè)在早期的技術(shù)積累大多已經(jīng)通過專利方式實現(xiàn)了保護,并在相關(guān)技術(shù)上利用專利交叉許可等方式初步完成了產(chǎn)業(yè)布局和聯(lián)盟的建立。
面對國外產(chǎn)業(yè)巨頭的步步緊逼,我國很多企業(yè)也已經(jīng)逐漸認識到知識產(chǎn)權(quán),特別是專利權(quán)對增強技術(shù)保護、提高競爭力的重要意義,但在運用專利手段進行技術(shù)保護和市場競爭方面仍處于初級階段,在國際產(chǎn)業(yè)巨頭的專利聯(lián)盟封鎖下未來處境將會更加嚴峻。
近年來,我國大陸地區(qū)LED專利申請數(shù)量大幅增長,申請量已經(jīng)超過美國列世界第二位。不過,這些專利主要集中在半導體照明產(chǎn)業(yè)鏈的中下游領(lǐng)域,中游封裝、下游應用環(huán)節(jié)的專利占申請總量的64%,其中LED應用申請量約占專利總量的43%,而在關(guān)系到產(chǎn)業(yè)長遠發(fā)展的關(guān)鍵技術(shù)環(huán)節(jié)仍缺乏核心專利。
從目前我國專利申請和授權(quán)情況來看,發(fā)明專利的申請量雖然仍在增加,但在各類專利類型中所占比例逐漸減少,而且發(fā)明專利的授權(quán)率也加速下降,由此可以推斷,半導體照明產(chǎn)業(yè)技術(shù)的第一波技術(shù)創(chuàng)新已接近完成,在產(chǎn)業(yè)技術(shù)上,特別是在上游的外延片、芯片技術(shù)上的原始創(chuàng)新難度更加困難,專利申請和授權(quán)的速度也在逐步放緩,目前的研發(fā)創(chuàng)新更多地是集中在技術(shù)改進、效率及良率的提升等方面。另一方面,實用新型專利申請量持續(xù)增加,而且在各類專利類型中所占比例一直保持較高水平,值得注意的是,這些實用新型專利大多處于半導體照明產(chǎn)業(yè)技術(shù)的中下游,即封裝光源以及半導體照明應用產(chǎn)品,由此可以推斷,隨著我國半導體照明市場日益擴張,產(chǎn)業(yè)下游應用技術(shù)日益成熟,各類半導體照明應用產(chǎn)品市場保持高速發(fā)展勢頭,不僅在替代傳統(tǒng)照明光源燈具方面保持發(fā)展,而且還逐步向相關(guān)應用領(lǐng)域滲透,相應的研發(fā)創(chuàng)新將更多地集中于應用端,集中于對產(chǎn)品細節(jié)的改進以及新應用領(lǐng)域的半導體照明產(chǎn)品的推出。
在各方都已經(jīng)基本作好技術(shù)積累和準備的情況下,半導體照明產(chǎn)業(yè)目前的關(guān)注重點已從技術(shù)研發(fā)轉(zhuǎn)向應用市場開拓。在日益白熱化的市場競爭壓力下,對于擁有專利的企業(yè)而言,專利將成為其促進市場開拓、打擊競爭對手的有效武器;而對于那些沒有專利儲備或?qū)@麚碛辛枯^小的企業(yè)而言,將會面臨越來越大的被控專利侵權(quán)的風險,專利已成為懸在頭頂上方的達摩克利斯之劍。
二、專利壓力下的對策分析
以專利為代表的知識產(chǎn)權(quán)已成為當代大型企業(yè)的競爭利器,特別是在通訊、電子等高利潤價值的高科技領(lǐng)域尤其如此,遠到華為與思科的多年斗爭,近到蘋果與三星的專利大戰(zhàn),都充分體現(xiàn)出知識產(chǎn)權(quán)的價值所在。
隨著半導體照明產(chǎn)業(yè)的逐步發(fā)展,市場競爭愈加激烈,以日亞化學、飛利浦、科銳、首爾半導體等為代表的國際產(chǎn)業(yè)巨頭也紛紛利用專利手段爭取在市場上跑馬圈地占據(jù)有利地位,日前才暫時告一段落的日亞化學與億光電子的專利戰(zhàn)預示著:在半導體照明這一快速增長的新興市場上,專利將越來越多地成為增強自身實力和打擊競爭對手的有力武器。
面對這種日益加劇的專利戰(zhàn)風險,即使是擁有一定量專利的、對專利有一定利用經(jīng)驗的企業(yè)也需要小心戒備,以應對可能隨時出現(xiàn)的突發(fā)事件。通常,面臨專利侵權(quán)風險時,我國企業(yè)有以下幾種可能的選擇:
1.退出存在專利侵權(quán)風險的市場
專利權(quán)受到各國相應專利法的保護。因此,如果希望在某國市場實現(xiàn)專利獨占權(quán),就需要在該國獲得相應的專利授權(quán)。反之,如果一項技術(shù)在某國未得到專利授權(quán),則無法在該國獲得專利保護。在這種情況下,企業(yè)可以僅在不存在相關(guān)專利保護的國家或地區(qū)進行市場營銷,而放棄存在專利保護的國家或地區(qū)的市場,以避免可能發(fā)生的侵權(quán)指控。
這是一種比較保守的對策,能夠以市場份額的損失換取不發(fā)生專利侵權(quán)的結(jié)果。但是其缺點也是明顯的:一旦進行了這種選擇,企業(yè)雖然可獲得一時的安全,但開拓該市場的前期投入前功盡棄不論,而且可能就此不得不局限于效益較差的低端市場上經(jīng)營和發(fā)展,而難以進入利潤較高的高附加值國際市場。當然,如果是為了暫時避開鋒芒以保存實力再圖進取也是一種權(quán)宜之計,否則,即使在國內(nèi)也無法完全避開專利侵權(quán)風險,那么企業(yè)將很難繼續(xù)發(fā)展甚至生存。
2.繞開專利壁壘進行產(chǎn)品規(guī)避設計
專利的授權(quán)文件確定了其受法律保護的范圍,只要產(chǎn)品的技術(shù)方案處于專利的技術(shù)方案保護范圍之外,則不會構(gòu)成專利侵權(quán)。進行產(chǎn)品規(guī)避設計是一種比較主動的對策,這樣所獲得的產(chǎn)品設計方案不僅可以避免產(chǎn)品侵權(quán),而且可以申請專利進行保護以擁有相應的自主知識產(chǎn)權(quán),這也是目前國家所鼓勵的方式。
另一方面,進行產(chǎn)品規(guī)避設計也存在一定風險。第一,在當前專利競爭激烈壓力下,不僅關(guān)鍵的技術(shù)路線已經(jīng)受到專利保護,甚至比較偏僻的次要技術(shù)路線也已有公司申請專利保護,在這種專利封鎖密布的情況下,要獲得完全規(guī)避開專利壁壘的產(chǎn)品設計所需要耗費的人力、物力和時間上的成本都是相當大的,尤其是在針對進入不同國家市場的產(chǎn)品可能需要不同規(guī)格設計的情況下;第二,即使這樣的規(guī)避設計能夠繞過專利壁壘,其性能、成本以及市場認可度等方面的問題也是仍需要認真考慮的;第三,企業(yè)的決策往往需要獲得半導體照明產(chǎn)業(yè)鏈中的上下游合作伙伴的認同和支持。
3.忽略專利侵權(quán)風險而冒險進行生產(chǎn)經(jīng)營
基于專利權(quán)提供的專利保護,專利權(quán)人可以禁止他人實施該專利中所保護的技術(shù)方案,對于涉嫌侵權(quán)的企業(yè),專利權(quán)人可以在適當時候提出停止侵權(quán)或支付侵權(quán)賠償?shù)囊蟆?/p>
忽略專利侵權(quán)風險的對策是比較冒險的。在專利權(quán)人不主張其權(quán)利時,雙方可能還會相安無事,然而一旦專利權(quán)人開始主張其權(quán)利,則可能對涉嫌侵權(quán)企業(yè)造成致命打擊,特別是在專利權(quán)人對企業(yè)選擇性“放水養(yǎng)魚”的策略下發(fā)展較好的企業(yè)面臨侵權(quán)指控的風險可能會更大,企業(yè)不僅會面臨高額侵權(quán)賠償或許可使用費要求,還可能由于專利權(quán)人請求的法院禁令等措施而使其生產(chǎn)經(jīng)營者陷入被動混亂局面,甚至可能使企業(yè)多年發(fā)展的成果毀于一旦。
4.獲得專利權(quán)人的專利實施許可
在專利權(quán)人的專利實施許可之后,企業(yè)能夠根據(jù)與專利權(quán)人簽訂的專利實施許可合同合法地實施該專利的技術(shù)方案,而不會對該專利造成侵權(quán)。企業(yè)應與專利權(quán)人簽訂專利實施許可合同,規(guī)定專利許可的種類、范圍、期限、使用費等項目。對于中國專利而言,專利實施許可合同應當自生效之日起3個月內(nèi)向?qū)@謧浒?,此后其備案信息將在專利公報中予以公告?/p>
企業(yè)通常會遇到的一種情況是:收到專利權(quán)人的警告律師函,被告知對某專利侵權(quán)并被要求停止侵權(quán)或者支付專利許可使用費。在這種情況下,企業(yè)首先可認真分析是否真正構(gòu)成產(chǎn)品侵權(quán),而不必貿(mào)然應對,畢竟也存在專利權(quán)人冒用或濫用權(quán)利以牟利的可能性。企業(yè)應核實相關(guān)專利是否在本公司產(chǎn)品所涉及的國家受到法律保護,由于專利權(quán)具有地域性,因此,一項外國專利權(quán)是無法禁止他人在中國實施專利技術(shù)方案的。企業(yè)還應核實相關(guān)專利權(quán)的有效性,例如,是否已授權(quán)生效、是否仍然在法律保護期限內(nèi)等,一項專利申請在授權(quán)生效之前是沒有專利權(quán)的,另外,如果授權(quán)專利超過法律保護期限或者因未繳年費而失效,則該專利的技術(shù)方案將會變?yōu)樯鐣藏敻豢晒┧藷o償使用。在核實相關(guān)專利的有效性之后,還應確認專利權(quán)的實際保護范圍并將涉嫌侵權(quán)產(chǎn)品與專利技術(shù)方案進行比較,只有產(chǎn)品的設計落入到該專利的保護范圍內(nèi)才會構(gòu)成侵權(quán),而在設計上與專利技術(shù)方案不完全相同的產(chǎn)品有可能并不構(gòu)成侵權(quán)。
如果通過分析認為對相關(guān)專利構(gòu)成侵權(quán)的風險較大,企業(yè)可以采取比較激烈的反擊措施,例如對相關(guān)專利提出無效宣告請求,質(zhì)疑其法律穩(wěn)定性,以實現(xiàn)撤銷這些專利的目的。在這種情況下,專利權(quán)人有時出于喪失專利權(quán)風險的考慮也會作出妥協(xié)通過談判與企業(yè)達成協(xié)議和解。
不過,企業(yè)也可以采取另一種對策,即通過獲得專利權(quán)人的專利實施許可而避免被控侵權(quán)可能造成的不良后果。在這種情況下,企業(yè)應對相關(guān)專利的法律穩(wěn)定性、實際保護范圍、剩余有效期限等因素進行更仔細的評估,以在未來與專利權(quán)人的談判過程中盡可能維護己方利益,爭取到相對合理的專利許可使用費,從而實現(xiàn)雙贏并有可能形成相對穩(wěn)固的合作關(guān)系。當然,如果存在多項可替代專利技術(shù),企業(yè)也可以進一步評估以選擇對自己更有利的專利進行實施許可談判。
在目前半導體照明領(lǐng)域?qū)@懿嫉那闆r下,通過專利實施許可消除專利侵權(quán)隱患并形成相對穩(wěn)固的合作關(guān)系,對于突破專利封鎖并借助于先進技術(shù)實現(xiàn)快速發(fā)展,也不失為一種可行的對策。
5.通過專利交叉許可形成專利聯(lián)盟
與上述的在遭遇侵權(quán)威脅時被動單獨應對不同的是,國內(nèi)企業(yè)也可以采取更加積極主動的對策,即,先行通過專利交叉許可而形成專利聯(lián)盟,集合力量對抗可能發(fā)生的不利情況,例如專利實施許可費用談判或侵權(quán)訴訟等等。事實上,國際產(chǎn)業(yè)巨頭在這方面已經(jīng)走在前面,不過我國企業(yè)采取這樣的“抱團取暖”的方式仍然勢在必行,不僅能夠有效提高自身的發(fā)言權(quán),而且能夠為未來與其它,特別是國際專利聯(lián)盟談判作好有利的鋪墊,尤其是在我國企業(yè)專利擁有量較大的半導體照明產(chǎn)業(yè)下游應用產(chǎn)品方面。
三、結(jié)語
隨著半導體照明產(chǎn)業(yè)的技術(shù)和市場的進一步發(fā)展,越來越多的國內(nèi)外企業(yè)開始利用專利作為增強市場競爭力的有力武器,以在這個前景無限的領(lǐng)域占據(jù)更有利的市場地位,小型的局部專利侵權(quán)糾紛已經(jīng)不斷出現(xiàn),而未來因利益糾紛而爆發(fā)大規(guī)模專利戰(zhàn)的可能性也在增加。
國際LED巨頭通常都擁有大量專利作為談判籌碼,因而其相互之間即使爆發(fā)專利戰(zhàn)也一般都以和解、簽訂專利交叉授權(quán)而告終。通過近年來的多次專利交鋒和相互妥協(xié),歐司朗、科銳、日亞化學、豐田合成和飛利浦五大LED公司已經(jīng)分別達成LED專利交叉許可協(xié)議,從而逐步形成了嚴密的專利交叉網(wǎng),使得后來者的競爭壓力越來越大。
在這個專利競爭日益激烈的大環(huán)境中,我國企業(yè)將不可避免地參與其中并受其影響。然而,無論采取哪種對策,只有盡快融入這個環(huán)境熟悉專利競爭規(guī)則,才可能在未來遭遇專利侵權(quán)風險時有效地應對。在目前我國大多數(shù)企業(yè)專利擁有量較低的情況下,盡快申請專利實現(xiàn)積累迫在眉睫,只有經(jīng)過這種積少成多的過程持有一定數(shù)量的專利,才可能有更多更靈活的選擇余地,在未來的專利交鋒或者合作談判中才會有更多更有效的籌碼。
從全球LED專利的發(fā)展過程來看,我國LED專利的申請進程落后于美日等發(fā)達國家,已錯過了第一階段的專利技術(shù)前期研發(fā)和第二階段的專利技術(shù)培育孵化,而直接進入了專利技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化應用階段。未來,進一步增強半導體照明應用產(chǎn)品相關(guān)技術(shù)的專利保護,有望成為我國的專利突破點,是強化我國半導體照明產(chǎn)業(yè)在應用環(huán)節(jié)局部優(yōu)勢的有效方式。半導體照明技術(shù)除用于替代改造傳統(tǒng)照明燈具以外,還因其自身特性可擴展到其他應用領(lǐng)域,只有將半導體照明應用市場的蛋糕作大,企業(yè)的發(fā)展空間才會更廣闊。
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