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          CADENCE與中芯提供90納米低功耗解決方案

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          作者: 時間:2006-09-11 來源:www.ednchina.com 收藏
            Cadence 設計系統(tǒng)公司與集成電路制造有限公司宣布,兩家公司已經聯合開發(fā)出數字設計參考流程,支持SMIC先進的工藝技術。該設計參考流程包含對Cadence® Encounter®時序系統(tǒng)的支持,以滿足設計師為計算機、消費電子、產品市場開發(fā)集成電路越來越高的需求。    


            該設計參考流程結合了Cadence Encounter數字IC設計平臺和Cadence可制造性設計(DFM)技術,攻克了、復雜的層次設計、時序及信號集成(SI)簽收等納米設計的挑戰(zhàn)。該設計參考流程使用SMIC的工藝技術進行開發(fā),通過了樣品設計驗證。Cadence作為最早與SMIC合作的電子設計自動化公司之一,與SMIC一起推出了Encounter系統(tǒng)級芯片設計參考流程。Cadence的新技術如Encounter時序系統(tǒng)已結合到該流程中,用于靜態(tài)時序分析(STA)簽收。    

            這套“SMIC-Cadence設計參考流程”是一套完整的Encounter低功耗系統(tǒng)級芯片設計參考流程,其重點在于90納米系統(tǒng)級芯片(SoC)的高效能源利用。它對功耗問題的優(yōu)化貫穿了所有必要的設計步驟,包括邏輯綜合、模擬、測試設計、等價性檢驗、芯片虛擬原型、物理實現和完成簽收分析。Encounter低功耗流程是業(yè)界首個為現代系統(tǒng)級芯片節(jié)能需求而設計的完整的低功耗之一。設計、實現和驗證技術完整結合,讓設計師的工作效率大大提升。該設計參考流程采用了Cadence Encounter以連線為首要考量的連續(xù)收斂方法,讓設計師可以迅速得到可行的網表和虛擬原型,在設計周期的初期就可以分析及優(yōu)化功耗、時序、SI和布線。    

            此外,該流程為設計師提供了一個全面的平臺,強調快速、精確與自動時序、功耗與SI收斂,提高了Encounter的低功耗性能。它解決了層次模塊分割、物理時序優(yōu)化、3-D RC提取、電壓降、泄漏和動態(tài)功耗優(yōu)化、信號干擾故障和延遲分析等問題。該流程讓設計師可以用系統(tǒng)性的、可預測的方式進行設計和優(yōu)化,得到最高質量的芯片。 

            SMIC-Cadence低功耗數字設計參考流程是創(chuàng)造次130納米的節(jié)能系統(tǒng)級芯片的起點。該流程融合了Cadence的多種獨創(chuàng)技術,包括優(yōu)化功耗的設計流程、Encounter時序系統(tǒng)、Encounter RTL編譯器全局優(yōu)化、Encounter低功耗系統(tǒng)級芯片參考設計流程、Cadence提取技術、搭配PowerMeter功能的VoltageStorm® 功耗分析以及CeltIC® 納米延時計算器(NDC),使用高度精確的有效電流源延時模型(ECSM),降低了低功耗消費應用電子產品的擴產時間。 

              可用性 

            SMIC與Cadence低功耗數字設計參考流程套件將提供給SMIC客戶。SMIC客戶通過聯系SMIC設計服務部索取該設計參考流程,聯系方式為:design_services@smics.com.更多詳情可參考(數據表插入鍵連)。



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