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          標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝集成肖特基二極管設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)

          作者: 時(shí)間:2013-09-16 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/174694.htm

          (SBD1,SBD2,SBD3分別為16,1.6,0.64μm2)通過(guò)擬合公式(3)和所測(cè)得的結(jié)果,我們可以得到實(shí)現(xiàn)SBD的方法,如表1的參數(shù)所示。

          從表1中可以觀察到,隨著相互交織的樹(shù)木的增多,串聯(lián)電阻的阻值明顯的降低。

          為實(shí)現(xiàn)SBD的測(cè)量,勢(shì)壘高度B的測(cè)量的統(tǒng)計(jì)結(jié)果如圖3所示。在所測(cè)的90個(gè)樣本中,SBD1、SBD2、SBD3各30個(gè)樣本,從而求得實(shí)現(xiàn)SBD的勢(shì)壘高度為0.44eV左右。

          擊穿電壓是4 . 5 V左右,在今后的工作中,在正常的SBD設(shè)計(jì)與生產(chǎn)中,擊穿電壓可以延長(zhǎng)一些方法的使用,例如在自對(duì)準(zhǔn)保護(hù)環(huán)境與SBD的制造過(guò)程中,5.2 C-V的功能

          下面給出了小信號(hào)肖特基的結(jié)電容Cj:

          其中,Nd為摻雜濃度的n-阱,Φn是費(fèi)米能級(jí)之間的電位差和導(dǎo)帶邊緣相等于(EC-Ef)/q.

          圖4顯示了測(cè)得的反向偏壓為SBD的C-V曲線。

          5.3 S參數(shù)測(cè)量和SBD高頻建模

          為了測(cè)量高頻率的S參數(shù)設(shè)計(jì)的設(shè)備,每個(gè)SBD被放置了有三個(gè)探頭焊盤(pán)。中間信號(hào)墊的大小是85μm×85μm和頂部/底部的的地面尺寸是85μm×135μm的。使用GSG探頭和網(wǎng)絡(luò)分析儀,我們可以得到S參數(shù)設(shè)計(jì)的SBD.但是,S參數(shù)的直接測(cè)量結(jié)果包括墊片、金屬線和覆蓋的寄生電容。對(duì)于設(shè)計(jì)的設(shè)備而言,盡管寄生參數(shù)是非常小的,但這些寄生參數(shù)是絕對(duì)不能被忽視的,在計(jì)算的時(shí)候應(yīng)該將GSG探頭直接測(cè)量的S參數(shù)減去。在本文所研究的設(shè)計(jì)中,我們制作兩個(gè)虛擬的GSG信號(hào)墊作為測(cè)試裝置,假如兩個(gè)信號(hào)墊一個(gè)是偽GSG信號(hào)墊,一個(gè)是SBD信號(hào)墊,且兩個(gè)信號(hào)墊同等大小。除此以外的虛擬信號(hào)墊都是開(kāi)放的,這也就是我們所說(shuō)的開(kāi)放式信號(hào)墊。S參數(shù)由啞墊進(jìn)行測(cè)量。接著就可以得到信號(hào)墊和金屬線的寄生電阻和電容。將這些寄生參數(shù)減去,就能夠得到S參數(shù)的無(wú)寄生電阻和電容。將這種方法稱(chēng)之為去嵌入技術(shù)。

          使用測(cè)得的S參數(shù)可以抽象為高頻模擬SPICE模型。圖5顯示SBD仿真離子模型的實(shí)現(xiàn)。L1和L2顯示出的輸入和輸出串聯(lián)電感。Ci和Co表示陽(yáng)極輸入輸出電容和陰極節(jié)點(diǎn)。C1具有相互交織的肖特基的兩個(gè)端口之間的寄生電容。R1和R2為連接S參數(shù)下NWLL到地面下電阻的n-阱的模型。pn反映的寄生蟲(chóng)n阱p-次二極管。在我們的設(shè)計(jì)中,可以用得到的pn二極管的參數(shù)通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝0.35μm的SPICE模型。

          如圖6所示,為S參數(shù)SBD1測(cè)量和模擬。

          表2給出了仿真離子模型的參數(shù),頻率SBD1從50MHz到40GHz,該模型可以匹配到30GHz的測(cè)量結(jié)果。

          6.結(jié)束語(yǔ)

          隨著無(wú)線通訊具有的靈活性和高機(jī)動(dòng)性的特點(diǎn),其應(yīng)用越來(lái)越廣泛,也順應(yīng)了市場(chǎng)的需求。由于CMOS工藝在諸多的工藝中最為成熟、成本最低,卻功耗最小,因此得到廣泛的應(yīng)用,隨著技術(shù)的不斷成熟,CMOS工藝基礎(chǔ)上的肖特基二極管設(shè)計(jì)及實(shí)現(xiàn)也成為現(xiàn)實(shí)。也是未來(lái)集成電路發(fā)展的必然趨勢(shì)。通過(guò)MPW在標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝制造的肖特基勢(shì)壘二極管中的設(shè)計(jì)應(yīng)用,可知鋁硅接觸的勢(shì)壘高度約0.44eV.

          通過(guò)I-V,C-V和S參數(shù)測(cè)量可以實(shí)現(xiàn)SBD.通過(guò)本文所示,SBD設(shè)計(jì)的優(yōu)勢(shì)較為明顯,最為顯著的是設(shè)計(jì)成本較低,能夠被廣泛的應(yīng)用與商業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的CMOS工藝中。在以后的工作中,更多的重點(diǎn)將集中在標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝設(shè)計(jì)的SBD的反向擊穿電壓和頻率范圍擴(kuò)展。

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