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          功率MOSFET抗SEB能力的二維數(shù)值模擬

          作者: 時(shí)間:2012-03-06 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

          摘要:在分析了單粒子燒毀()物理機(jī)制及相應(yīng)仿真模型的基礎(chǔ)上,研究了無緩沖層準(zhǔn)靜態(tài)擊穿特性曲線,明確了影響器件抗的參數(shù)及決定因素。仿真研究了單緩沖層結(jié)構(gòu),表明低摻雜緩沖層可提高器件負(fù)阻轉(zhuǎn)折臨界電流,高摻雜緩沖層可改善器件二次擊穿電壓,據(jù)此提出一種多緩沖層結(jié)構(gòu),通過優(yōu)化摻雜濃度和厚度,使器件的抗得到了顯著提高。仿真結(jié)果顯示,采用三緩沖層結(jié)構(gòu),二次擊穿電壓近似為無緩沖結(jié)構(gòu)的3倍,負(fù)阻轉(zhuǎn)折臨界電流提高近30倍。
          關(guān)鍵詞:金屬氧化物場(chǎng)效應(yīng)晶體管;單粒子燒毀;

          1 引言
          VD晶體管以其開關(guān)速度快、輸入電阻高、頻率特性好、驅(qū)動(dòng)高、跨導(dǎo)線性度高等特點(diǎn),廣泛應(yīng)用在空間系統(tǒng)的電源電路中。但它在空間輻射環(huán)境中極易被重離子誘發(fā)SEB,造成變換器或電源電壓的劇烈波動(dòng),可導(dǎo)致衛(wèi)星的電子系統(tǒng)發(fā)生災(zāi)難性事故。國外對(duì)VDMOSFET的SEB效應(yīng)研究較多。而我國起步較晚,在理論和實(shí)驗(yàn)上存在許多問題。
          在此對(duì)功率MOSFET的SEB效應(yīng)的機(jī)理進(jìn)行了簡單分析,并針對(duì)600 V平面柵VDMOSFET,利用半導(dǎo)體器件軟件Medici研究了緩沖層對(duì)提高M(jìn)OSFET抗SEB能力的影響,提出利用多緩沖層結(jié)構(gòu)改善MOSFET抗SEB能力的方案,最后給出一組優(yōu)化后的多緩沖層結(jié)構(gòu)。

          2 SEB機(jī)理以及仿真物理模型
          2.1 單粒子燒毀機(jī)制
          SEB效應(yīng)主要發(fā)生在器件阻斷狀態(tài),由轟擊到MOSFET發(fā)生SEB的原理如圖1所示。重離子轟擊產(chǎn)生的電子空穴對(duì)中的電子,在電場(chǎng)作用下向漏接觸區(qū)(Drain Contact)移動(dòng),而空穴則在漏電場(chǎng)作用下沿跡線向p體區(qū)(p-body)運(yùn)動(dòng),進(jìn)入p-body區(qū)之后,橫向運(yùn)動(dòng),最后經(jīng)p-body接觸區(qū)流出。由于橫向空穴流產(chǎn)生壓降,致使遠(yuǎn)離電極接觸區(qū)的p-body部分電位升高,造成p體區(qū)/n源極(p-body/n-source)結(jié)正偏,觸發(fā)寄生npn晶體管的發(fā)射極向漂移區(qū)注入電子。由于此時(shí)MOSFET處于高壓阻斷態(tài),電子的注入會(huì)改變空間電荷分布,造成電子在n漂移區(qū)/n+襯底(n-drift/n+-sub)高低結(jié)的積累,空間電荷區(qū)收縮,n-drift/n+-sub高低結(jié)處電場(chǎng)強(qiáng)度增加。隨著重離子轟擊強(qiáng)度增加,等離子體絲流增大,寄生npn晶體管發(fā)射結(jié)正偏程度增強(qiáng),n-drift/n+-sub高低結(jié)處電場(chǎng)強(qiáng)度越來越高。當(dāng)該電場(chǎng)增加到一定程度時(shí),會(huì)激發(fā)雪崩倍增效應(yīng),漂移區(qū)電流增大,進(jìn)而使寄生晶體管的發(fā)射結(jié)進(jìn)一步正偏,此正反饋效應(yīng)反復(fù)進(jìn)行,最終可導(dǎo)致器件因電流過大、溫度過高而燒毀。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/177788.htm

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          從SEB的失效機(jī)理可見,抑制SEB效應(yīng)可從兩方面入手:①降低寄生晶體管的電流增益,削弱晶體管作用,主要包括背柵短路、進(jìn)行p+注入,增強(qiáng)源區(qū)下半導(dǎo)體導(dǎo)電能力、采用源區(qū)挖槽工藝,縮短源區(qū)寬度、減小寄生晶體管面積等:②優(yōu)化電場(chǎng)分布,提高n-drift/n+-sub高低結(jié)處雪崩倍增效應(yīng)發(fā)生的臨界電流。由于這方面的研究相對(duì)較少,且主要采用單緩沖層結(jié)構(gòu),故這里在單緩沖層仿真結(jié)果的基礎(chǔ)上,提出多緩沖層結(jié)構(gòu),并給出一組三緩沖層結(jié)構(gòu)的優(yōu)化結(jié)果。

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