功率管理技術(shù)介紹

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　　近似為1，得出

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　　現(xiàn)在可把泄漏功率寫成

　　（8）

根據(jù)這個(gè)結(jié)果，你可以看到控制功率的主要參數(shù)是閾值電壓、氧化物厚度、晶體管長度與寬度、電源電壓、反向柵極偏壓。由于有功功率隨電源電壓的平方而變化，因此降低電源電壓對(duì)降低有功功率具有最大的影響。功率降低速度是電壓降低速度的兩倍，即電源電壓降低20%會(huì)導(dǎo)致有功功率降低40%。其余參數(shù)只是以線性方式影響有功功率。晶體管長度、寬度或閾值電壓的任何明顯變化都對(duì)晶體管的性能具有不利影響。因此它們?cè)诮档陀泄β史矫鎯H起著很小的作用。從方程5可看到

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　　如果ΔVGS = -NVT，則方程變?yōu)?/span>

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　　意味著有效柵極至源極電壓每降低NVT，N對(duì)于某種技術(shù)一般是1～2.5，并且閾值電壓在室溫時(shí)等于26 mV，因此柵極至源極電壓每變化50 mV～75 mV，你都會(huì)看到亞閾值電流降低至2.7分之一。提高閾值電壓具有相同效果。因此，閾值電壓每提高50 mV～75 mV，泄漏電流都會(huì)降低至2.7分之一。閾值電壓提高100 mV～150 mV，會(huì)使泄漏電流降低至7.4分之一。

　　你可以通過提高反向柵極偏壓來進(jìn)一步降低泄漏電流。由于存在體偏壓系數(shù)γ，收效會(huì)不太明顯。降低電源電壓也有助于降低泄漏電流。增加晶體管的溝道長度不僅直接降低泄漏電流（如方程5所示），而且還有助于提高閾值電壓（如方程2所示）。

　　亞閾值電流以指數(shù)形式依賴于溫度。由于NVT項(xiàng)出現(xiàn)在負(fù)指數(shù)的分母中，因此在溫度升高時(shí)，電流會(huì)顯著增加。這種增加會(huì)帶來重大挑戰(zhàn)，這是因?yàn)樾孤┕β试诟邷貢r(shí)變成了總功率的重要部分。

　　技術(shù)的作用

　　每一次技術(shù)進(jìn)步的目標(biāo)都是為了改善性能、密度和功耗。工藝設(shè)計(jì)者調(diào)整施加的電壓和氧化物厚度來保持相同電場(chǎng)。該途徑在每個(gè)新的技術(shù)節(jié)點(diǎn)都會(huì)使功率降低大約50%。但是，隨著電壓的降低，閾值電壓也必須降低，來實(shí)現(xiàn)該技術(shù)的性能目標(biāo)。

　　由于無法立即同時(shí)在性能和泄漏方面優(yōu)化某種技術(shù)，因此每種技術(shù)通常會(huì)有兩個(gè)變種。一個(gè)變種針對(duì)高性能，另一個(gè)針對(duì)低泄漏。二者的首要區(qū)別是氧化物厚度、電源電壓和閾值電壓。柵極氧化物較厚的技術(shù)變種面向低泄漏設(shè)計(jì)，并且必須支持更高的電壓來實(shí)現(xiàn)合理性能。

　　方程2表明了依賴于工藝的參數(shù)γ和ΘS，你可以操縱它們來控制閾值電壓。這些參數(shù)取決于雜質(zhì)濃度，工藝設(shè)計(jì)者可使用一個(gè)額外的注入掩模來調(diào)節(jié)該濃度。然后你可以運(yùn)用該方法來控制設(shè)計(jì)方案的泄漏功率。

　　在選擇技術(shù)來優(yōu)化特定設(shè)計(jì)的功率時(shí)，你必須同時(shí)考慮兩個(gè)方面：需要使用更小的幾何結(jié)構(gòu)來降低有功功率；需要使用低泄漏的變種來降低泄漏。但在成本和風(fēng)險(xiǎn)方面需要折中。

　　更小的幾何結(jié)構(gòu)需要在掩模成本和其它一次性工程支出方面投入更多的初始資金。雖然它們憑借每塊晶圓可生產(chǎn)出更多器件而具有單位成本優(yōu)勢(shì)，但它們也在工藝和設(shè)計(jì)成熟度方面帶來了更高風(fēng)險(xiǎn)。如果設(shè)計(jì)方案包含SERDES等復(fù)雜電路，或是該工藝中新出現(xiàn)的其它敏感的塊，那么設(shè)計(jì)風(fēng)險(xiǎn)可能很高。新技術(shù)的工藝缺陷通常是在它投產(chǎn)一年或更久之后被全部消除，然后成品率會(huì)穩(wěn)定下來。

　　問題的答案取決于功率的性質(zhì)和最終應(yīng)用。如果最終應(yīng)用是由電池供電，那么你必須使泄漏最小化。例如，如果你能關(guān)斷處于待機(jī)模式的設(shè)計(jì)方案，那么它就不需要低泄漏工藝，這是因?yàn)槟憧梢躁P(guān)斷高性能系統(tǒng)中的電路，并且同時(shí)實(shí)現(xiàn)低泄漏的好處。

　　低泄漏工藝需使用更高的電壓，并且一般具有更大的面積，因此對(duì)于相同性能，會(huì)消耗更大的有功功率。因此對(duì)于低泄漏工藝選擇工作，泄漏功率是首要推動(dòng)因素。當(dāng)泄漏功率在設(shè)計(jì)方案的工作期間成為總功率的重要部分，或是當(dāng)設(shè)計(jì)方案對(duì)待機(jī)模式的功率（泄漏起著主導(dǎo)作用）有嚴(yán)格要求時(shí)，選擇低泄漏工藝就能滿足這些要求。在其它多數(shù)情況下，你可以選擇標(biāo)準(zhǔn)工藝，用它和多種電路設(shè)計(jì)方法來優(yōu)化功率。