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          納米材料與器件的電氣測量方法

          作者: 時間:2012-04-18 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

          無源的電測量通常遵循以下簡單流程:通過某種方式對樣品進行激勵,并測量其對激勵的響應(yīng)。這種也可用于測量具有無源和有源特性的。通過適當(dāng)?shù)?a class="contentlabel" href="http://www.ex-cimer.com/news/listbylabel/label/方法">方法,源-測量(source-measurement)算法可以用于表征能量源。燃料電池和電池的阻抗譜(impedance spectroscopy)就是這類測量的實例。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/194030.htm

          對納米微粒(nanoscopic particle)來說,這種通用的源-測量測試可以定量測量阻抗、電導(dǎo)和電阻,這些測量值揭示材料的關(guān)鍵性能。即便材料最終并非應(yīng)用于電路,這種測量方法仍然適用。

          需要注意的問題

          測量納米微粒需要重點注意以下情況:

          1. 納米微粒無法承受宏觀負載的電流值(除非是超導(dǎo)材料)。這意味著測試時,必須小心控制電流激勵的大小。

          2. 納米微粒無法承受傳統(tǒng)電子器件或材料(例如晶體管)與周圍器件之間那么高的電壓。其原因是器件的尺寸較小,彼此的距離更近,質(zhì)量也更小,周圍強電場產(chǎn)生的力會影響器件。此外,同納米微粒相關(guān)的內(nèi)部電場強度也很高,因此施加電壓時要非常小心。

          3. 由于納米器件很小,產(chǎn)生的寄生電感和電容也較低,這一特點在電路應(yīng)用中尤為突出。與類似的宏觀器件相比,其開關(guān)速度更快、功率損耗更低。然而,這也意味著測量此類器件I-V曲線的測試儀器在跟蹤較短反應(yīng)時間的同時必須對小電流進行測量。

          因為納米級測試應(yīng)用中激勵和測量的電流值一般都很低,需要恰當(dāng)?shù)剡x擇和使用儀器來完成精確的電氣特性測試。除了靈敏度高之外,測量儀器的響應(yīng)時間也要短(有時也稱為高頻寬),這些要求與DUT的低電容值以及低電流時迅速的狀態(tài)轉(zhuǎn)換有關(guān)。

          測量拓撲結(jié)構(gòu)的選擇

          需要指出的是,源-測量測試的電路開關(guān)速度受到使用的儀器跟隨器件狀態(tài)的速度限制。如果測試的拓撲結(jié)構(gòu)沒有經(jīng)過優(yōu)化,這一點尤為突出?,F(xiàn)有的測量拓撲結(jié)構(gòu)是電流源/測量電壓或電壓源/測量電流兩種。

          在測量低阻抗器件(低于1000Ω)時,電流源/測量電壓的方法通常會獲得最好的結(jié)果。穩(wěn)定的電流源加載到低阻抗器件時,較容易得到好的信噪比,這樣可以實現(xiàn)精確的低電壓響應(yīng)測量。

          另一種選擇是電壓源/測試電流,但這種方法并不適合低阻抗測量。為了保持器件的低電流以及避免毀壞性發(fā)熱,要求施加的電壓極低。低電壓情況下,電壓源會將額外的噪聲引入到測量電流(響應(yīng))中。換言之,在加載的總電壓中很大一部分是電壓源的噪聲電壓。另外,低阻抗負載情況下電壓源穩(wěn)定性也差一些。有些電流測量問題與儀器的電壓負擔(dān)(安培計輸入端產(chǎn)生的電壓)有關(guān),這也會引入額外的誤差。

          測量高阻抗器件(阻抗值大于10,000Ω)時,電壓源/測量電流的方法是最好的選擇。很容易實現(xiàn)驅(qū)動高阻抗的穩(wěn)定電壓源。當(dāng)將一個設(shè)計良好的電壓源加載到高阻抗器件時,將對DUT和測試電纜的雜散電容快速充電,并迅速達到最終的輸出值。采用適當(dāng)?shù)陌才嘤嬁梢跃_地測量DUT的低電流響應(yīng)。

          另一種方法是電流源/測量電壓,這種方法在高阻抗測量中將會出現(xiàn)問題。為了在實際測量中保持電壓響應(yīng)足夠低,必須采用低電流值,這意味著電路要用很長時間對器件和測試電纜的雜散電容充電。此外,高電壓測量電路也會從DUT中分流一部分源電流。由于這部分電流沒有被測量,因而這部分電流會造成測量誤差。

          電噪聲

          測量的拓撲結(jié)構(gòu)也會影響電噪聲,并最終限制測量的靈敏度和精度。對于采用電流源激勵的低阻抗電壓測量來說,測量電路對DUT的電壓噪聲和阻抗較為靈敏。

          對宏觀器件來說,例如一個電阻,室溫下(270oK)的Johnson噪聲電壓可以表示為:

          該公式顯示,隨著DUT電阻R的降低,DUT產(chǎn)生的Johnson電壓噪聲也隨之降低。與此相反,由電壓源激勵的高阻抗器件則受到電流測量噪聲的限制。在270oK時電阻的Johnson電流噪聲為:

          這個公式表明隨著DUT電阻值的提高噪聲值會降低。

          對于所有尺寸的微粒來講,除Johnson噪聲之外,還可能存在與選擇的測量拓撲結(jié)構(gòu)有關(guān)的噪聲增益。噪聲增益指的是測量系統(tǒng)中噪聲的寄生放大,如果選擇正確的測量拓撲結(jié)構(gòu),這種噪聲增益將不存在。例如,在一個電壓源/測量電流的拓撲結(jié)構(gòu)中,在很多電流測量電路(安培計)中都采用運算放大器,如圖1所示。為了減小噪聲增益,對于非反向輸入端子,安培計電路必須在低增益條件下工作。

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          圖1: (a)電壓源/測量電流方法的電路模型。(b)在DUT阻抗值低于測量阻抗時,用改進的模型描述噪聲增益。

          源-測量儀器

          商用的直流源-測量單元(SMU)是一種可用于和器件測試的便利工具。SMU可以自動改變測量拓撲結(jié)構(gòu),例如可以在電壓源/測量電流和電流源/測量電壓之間迅速轉(zhuǎn)換。這樣可以在最大化測量速度和精度的同時很容易地降低測量噪聲。

          像前面提到的碳納米管(CNT)那樣,一些納米微粒應(yīng)用于不同外場時會改變狀態(tài)。當(dāng)進行此類材料的研究時,可以對SMU進行配置來提供電壓源,并對處于高阻態(tài)的納米粒子測量電流。如果材料處于低阻態(tài),則轉(zhuǎn)換到電流源/電壓測量來獲得更高的精度。此外,SMU還帶有電流驗證功能(compliance function),可以自動限制DC電流,防止電流過大損壞待測器件或材料。類似地,當(dāng)采用電流源時也有電壓驗證功能。

          使用驗證功能時,SMU可以輸出滿足要求的電流/電壓源值,除非超過了用戶的驗證值。例如,當(dāng)SMU設(shè)定在電壓源狀態(tài),并預(yù)設(shè)了驗證電流值,如果超過了這個驗證值,SMU立即自動轉(zhuǎn)換為恒流源,其輸出值將穩(wěn)定在驗證電流值。類似地,如果SMU設(shè)定在電流源狀態(tài),并設(shè)定了一個驗證電壓,當(dāng)DUT的阻抗和電流源開始使電壓高于驗證值時,SMU將自動轉(zhuǎn)換到電壓源(驗證電壓)狀態(tài)。

          像CNT開關(guān)之類的納米級器件可以快速改變狀態(tài),而儀器的狀態(tài)轉(zhuǎn)換則并不能在瞬間完成。對于不同的SMU模式,開關(guān)時間在100ns到100μs之間。盡管對于跟蹤納米微粒的狀態(tài)轉(zhuǎn)換來說,這樣的開關(guān)速度還不夠快,但這么短的時間已經(jīng)足夠在每個狀態(tài)下完成精確測量,同時將DUT的功率損耗限制在可接受水平。


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