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          印刷電路板是如何制作

          作者: 時(shí)間:2010-02-26 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

          我們來(lái)看一下的,以四層為例。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/195523.htm

          四層PCB板制作過(guò)程:

          1.化學(xué)清洗―【Chemical Clean】

          為得到良好質(zhì)量的蝕刻圖形,就要確??刮g層與基板表面牢固的結(jié)合,要求基板表面無(wú)氧化層、油污、灰塵、指印以及其他的污物。因此在涂布抗蝕層前首先要對(duì)板進(jìn)行表面清洗并使銅箔表面達(dá)到一定的粗化層度。
          內(nèi)層板材:開(kāi)始做四層板,內(nèi)層(第二層和第三層)是必須先做的。內(nèi)層板材是由玻璃纖維和環(huán)氧樹(shù)脂基復(fù)合在上下表面的銅薄板。

          2.裁板 壓膜―【Cut Sheet Dry Film Lamination】

          涂光刻膠:為了在內(nèi)層板材作出我們需要的形狀,我們首先在內(nèi)層板材上貼上干膜(光刻膠,光致抗蝕劑)。干膜是由聚酯簿膜,光致抗蝕膜及聚乙烯保護(hù)膜三部分組成的。貼膜時(shí),先從干膜上剝下聚乙烯保護(hù)膜,然后在加熱加壓的條件下將干膜粘貼在銅面上。

          3.曝光和顯影-【Image Expose】 【Image Develop】

          曝光:在紫外光的照射下,光引發(fā)劑吸收了光能分解成游離基,游離基再引發(fā)光聚合單體產(chǎn)生聚合交聯(lián)反應(yīng),反應(yīng)后形成不溶于稀堿溶液的高分子結(jié)構(gòu)。聚合反應(yīng)還要持續(xù)一段時(shí)間,為保證工藝的穩(wěn)定性,曝光后不要立即撕去聚酯膜,應(yīng)停留15分鐘以上,以時(shí)聚合反應(yīng)繼續(xù)進(jìn)行,顯影前撕去聚酯膜。
          顯影:感光膜中未曝光部分的活性基團(tuán)與稀堿溶液反應(yīng)生產(chǎn)可溶性物質(zhì)而溶解下來(lái),留下已感光交聯(lián)固化的圖形部分。

          4.蝕刻-【Copper Etch】

          在撓性印制板或印制板的生產(chǎn)過(guò)程中,以化學(xué)反應(yīng)方法將不要部分的銅箔予以去除,使之形成所需的回路圖形,光刻膠下方的銅是被保留下來(lái)不受蝕刻的影響的。

          5.去膜,蝕后沖孔,AOI檢查,氧化
          Strip Resist】 【Post Etch Punch】 【AOI Inspection】 【Oxide】

          去膜的目的是清除蝕刻后板面留存的抗蝕層使下面的銅箔暴露出來(lái)?!澳ぴ边^(guò)濾以及廢液回收則須妥善處理。如果去膜后的水洗能完全清洗干凈,則可以考慮不做酸洗。板面清洗后最后要完全干燥,避免水份殘留。

          6.疊板-保護(hù)膜膠片【Layup with prepreg】

          進(jìn)壓合機(jī)之前,需將各多層板使用原料準(zhǔn)備好,以便疊板(Lay-up)作業(yè).除已氧化處理之內(nèi)層外,尚需保護(hù)膜膠片(Prepreg)-環(huán)氧樹(shù)脂浸漬玻璃纖維。疊片的作用是按一定的次序?qū)⒏灿斜Wo(hù)膜的板子疊放以來(lái)并置于二層鋼板之間。

          7.疊板-銅箔 和真空層壓
          【Layup with copper foil】【Vacuum Lamination Press】

          銅箔-給目前的內(nèi)層板材再在兩側(cè)都覆蓋一層銅箔,然后進(jìn)行多層加壓(在固定的時(shí)間內(nèi)需要測(cè)量溫度和壓力的擠壓)完成后冷卻到室溫,剩下的就是一個(gè)多層合在一起的板材了。

          8.CNC鉆孔【CNC Drill】

          在內(nèi)層精確的條件下,數(shù)控鉆孔根據(jù)模式鉆孔。鉆孔精度要求很高,以確保孔是在正確位置。

          9.電鍍-通孔【Electroless Copper】

          為了使通孔能在各層之間導(dǎo)通(使孔壁上之非導(dǎo)體部份之樹(shù)脂及玻纖束進(jìn)行金屬化),在孔中必須填充銅。第一步是在孔中鍍薄薄一層銅,這個(gè)過(guò)程完全是化學(xué)反應(yīng)。最終鍍的銅厚為50英寸的百萬(wàn)分之一。

          10.裁板 壓膜【Cut Sheet】 【Dry Film Lamination】

          涂光刻膠:我們有一次在外層涂光刻膠。

          11.曝光和顯影-【Image Expose】 【Image Develop】

          外層曝光和顯影

          12.線路電鍍:【Copper Pattern Electro Plating】

          此次也成為二次鍍銅,主要目的是加厚線路銅和通孔銅厚。

          13.電鍍錫【Tin Pattern Electro Plating】

          其主要目的是蝕刻阻劑, 保護(hù)其所覆蓋的銅導(dǎo)體不會(huì)在堿性蝕銅時(shí)受到攻擊(保護(hù)所有銅線路和通孔內(nèi)部)。

          14.去膜【Strip Resist】

          我們已經(jīng)知道了目的,只需要用化學(xué)方法,表面的銅被暴露出來(lái)。

          15.蝕刻【Copper Etch】

          我們知道了蝕刻的目的,鍍錫部分保護(hù)了下面的銅箔。

          16.預(yù)硬化 曝光 顯影 上阻焊

          【LPI coating side 1】 【Tack Dry】 【LPI coating side 2】【Tack Dry】
          【Image Expose】【Image Develop】 【Thermal Cure Soldermask】
          阻焊層,是為了把焊盤(pán)露出來(lái)用的,也就是通常說(shuō)的綠油層,實(shí)際上就是在綠油層上挖孔,把焊盤(pán)等不需要綠油蓋住的地方露出來(lái)。適當(dāng)清洗可以得到合適的表面特征。


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