CSTIC 2016：半導體是推動技術革新的核心基礎產(chǎn)業(yè)

　　技術的革新進步改變著當今世界日常生活的方方面面。3月13日-14日，2016年中國國際半導體技術大會(CSTIC 2016)在上海國際會議中心隆重舉行。與SEMICON China 2016同期舉辦CSTIC 2016是中國最大的半導體技術大會，成為國內(nèi)探討先進半導體技術的年度盛會。CSTIC由SEMI和IEEE-EDS主辦，ICMTIA協(xié)辦，由長電科技、中芯國際、愛德萬測試等企業(yè)聯(lián)合贊助。

　　大會特別邀請STM副總裁、MEMS傳感器事業(yè)部總經(jīng)理Andrea Onetti、英特爾高級研究員Dr. Chia-Hong Jan和華為公司副總裁楚慶作為主題演講嘉賓。

　　本屆技術大會收到400多篇優(yōu)秀論文，并吸引了800多位專業(yè)聽眾前來參會。會議內(nèi)容涵蓋半導體技術和制造，包括設備、設計、平板印刷、材料、工藝等各方面，以及新興的半導體技術和硅材料應用等。3D打印、LEDs、MEMS、碳納米電子等都是會議的熱門關注領域。半導體技術的發(fā)展是支持國家經(jīng)濟，提升產(chǎn)業(yè)競爭力的核心產(chǎn)業(yè)之一，也是推動技術革新的基礎產(chǎn)業(yè)。

　　會議現(xiàn)場還頒布了由大會主辦方SEMI與ECS共同設立的優(yōu)秀學生與優(yōu)秀年輕工程師獎。獲得ECS優(yōu)秀學生獎的有來自巴西圣保羅大學/比利時魯汶微電子研究所的Alberto V. de Oliveira (一等獎)和來自清華大學的Jie Cheng(二等獎);獲得SEMI優(yōu)秀年輕工程師獎的是來自XFAB Sarawak 的Wang Dulin。

　　除了主題演講外，本屆技術大會還設有12個專題研討會，在3月13-14日同時舉行。

　　主題演講引爆全場

　　隨著智能終端、MEMS、物聯(lián)網(wǎng)等新應用市場的發(fā)展，也給集成電路產(chǎn)業(yè)帶來新的產(chǎn)業(yè)動力。中國正成為集成電路產(chǎn)業(yè)的熱點區(qū)域。MEMS傳感器將怎樣影響物聯(lián)網(wǎng)?摩爾定律是否仍將繼續(xù)?以及對新技術的發(fā)展趨勢的探討，成為今年CSTIC主題演講的熱點話題。

　　STM副總裁，MEMS傳感器事業(yè)部總經(jīng)理Andrea Onetti

　　STM副總裁、MEMS傳感器事業(yè)部總經(jīng)理 Andrea Onetti在他的主題演講中圍繞MEMS和傳感器以及它們對物聯(lián)網(wǎng)的影響，進行了深入淺出地闡述。他指出，要實現(xiàn)設備間的互聯(lián)互通，傳感器是核心，它是讓一切事物變得智能的關鍵。他列舉了一系列應用實例，如智能路燈、智能垃圾收集系統(tǒng)、智能停車等，展示如何通過傳感技術的應用，實現(xiàn)節(jié)能的同時收集數(shù)據(jù)，實現(xiàn)真正的萬物互聯(lián)。不同的智能應用帶來不同的體驗，而其背后都離不開傳感技術，所以傳感技術的應用將有無限可能。ST針對未來的物聯(lián)網(wǎng)開發(fā)者的需求，著力在軟硬件構建模塊及開發(fā)和原型工具上提供一系列解決方案，為開發(fā)者提供便利。

　　英特爾高級研究員Dr. Chia-Hong Jan

　　英特爾高級研究員Dr. Chia-Hong Jan一上來就拋出三個問題——為什么是摩爾定律?摩爾定律何時終結?是什么在支持摩爾定律?隨后，他給出的結論是，在某種意義上，摩爾定律不會終結，因為遵循或者超越摩爾定律的創(chuàng)新性產(chǎn)品將獲得市場并且顛覆其他產(chǎn)品。Dr. Chia-Hong Jan進而指出，事實上，摩爾定律體現(xiàn)在各個領域，包括CPU、DRAM、Flash、HDD、CIS等的發(fā)展歷程中，都可以看到摩爾定律的特性。此外，Dr. Chia-Hong Jan還從摩爾定律與顛覆式創(chuàng)新、能源效率等角度，結合產(chǎn)業(yè)實例作了一系列分析闡述。

　　華為公司副總裁楚慶

　　然而，華為公司副總裁楚慶卻表示“摩爾定律必然終結。”他甚至直言摩爾定律是一個“錯覺”。“摩爾定律曾為行業(yè)制造了一條競爭跑道，其規(guī)則是只要‘工藝領先，就將獲勝’。”但楚慶指出，現(xiàn)在這一規(guī)律已經(jīng)開始偏離，“摩爾定律的基石已經(jīng)在工藝到了Finfet 、SOI的分叉時產(chǎn)生了動搖。全新的器件結構(Finfet、SOI等)的引入標志著后摩爾定律時代來臨，摩爾定律已經(jīng)開始偏離了原來的發(fā)展節(jié)奏。”

　　談到存儲領域目前所面臨的長期僵局，楚慶則指出存儲體產(chǎn)業(yè)缺乏自我革新的力量，所有競爭圍繞價格和成本，低毛利導致研發(fā)投入嚴重不足，是時候吹響技術革命的號角，并認為新型存儲介質將引領存儲領域的變革。此外，楚慶還提到了量子計算、人工智能等一系列新技術，并進一步表示，未來的新技術的走向，也許沒有一條會和摩爾定律有關聯(lián)。而摩爾定律的終結在楚慶看來也并非壞事，他認為，“任何摧垮舊制度的炮彈，都是誕生新事物的開端。相信人類的創(chuàng)造力是無限的。”

　　11個專題研討會

　　專題研討會內(nèi)容涵蓋先進技術、產(chǎn)業(yè)發(fā)展、最新動態(tài)、產(chǎn)業(yè)的未來展望等，來自產(chǎn)業(yè)前沿的專業(yè)演講者們，在各自領域分享了來自產(chǎn)業(yè)的最新技術和聲音，并深入剖析新的產(chǎn)業(yè)發(fā)展趨勢。

　　專題研討會現(xiàn)場

　　專題研討會會場一的主題為“設備工程與技術”，并分為五個討論題目，分別為存儲技術、可靠性和噪音特性、新型固態(tài)設備、先進設備技術和先進工藝技術。其中有曼徹斯特大學的Jianhua Joshua Yang帶來的“記憶電阻器使存儲和神經(jīng)應用成為可能”，新加坡南洋理工大學的Yu Hao的“類人腦計算與非易失性存儲設備”等。

　　專題研討會會場二的主題為“光刻和曝光”。分別圍繞“計算性光刻技術”、“MEMS、Mask和Metrology”、“多重曝光”、“工藝和材料”等方面展開探討。其中有Intel的Vivek Singh帶來“摩爾定律：沒有盡頭”的演講;Brewer Science的Leo Pang帶來關于“光刻技術中的化學影響的調(diào)查研究”;東京東北大學的Chiaki Kato分享了“MEMS技術發(fā)展趨勢”;來自東電電子Hidetami Yaegashi的“7納米節(jié)點多次曝光中的圖形擬真度控制”等。

　　專題研討會會場三的主題為“干濕蝕刻和清洗”。演講內(nèi)容有Lam Research的Rich Wise帶來的“圖形技術對10納米、7納米及5納米邏輯節(jié)點的影響”，應用材料的Peter Loewenhardt的“原子級精密材料工程”，北方微電子的Shaohua Liu帶來的“功率半導體設備的設備解決方案”等。

　　專題研討會會場四的主題為“薄膜技術和工藝整合”，并圍繞FEOL CVD和熱敏薄膜、FEOL金屬、材料和工藝整合、BEOL薄膜、新型材料等多個話題展開討論。

　　專題研討會會場五的主題為“CMP和CMP之后的清洗”，六個討論題目為先進CMP應用、CMP消耗技術、先進節(jié)點的CMP技術、CMP缺陷和清洗技術、BEOL CMP、新CMP的應用和技術。演講內(nèi)容包括克拉克森大學的S.V. Babu博士的“緩解阻隔性薄膜在先進節(jié)點的腐蝕性挑戰(zhàn)”，Global Foundries的JH Han博士的“化學機械拋光革新技術是10納米之下邏輯設備的關鍵技術”等。

　　專題研討會會場六的主題為“封裝和裝配”。專題研討會會場八主題為“計量、可靠性和測試“，討論題目圍繞測試、計量、硬件安全、可靠性、識別和觀察等。

　　專題研討會會場九的主題為“新興半導體技術”，討論題目分為先進邏輯技術、新興半導體技術、新興半導體存儲技術、先進光學半導體技術、3D和功率半導體技術以及2D半導體和量子點技術。

　　專題研討會會場十的主題為“MEMS和傳感器技術的進步”，討論題目分為MEMS和傳感器系統(tǒng)、新穎的MEMS設備和傳感器、MEMS和傳感器的制造和測試以及MEMS和傳感器的材料和工藝。

　　專題研討會會場十一的主題為“電路設計、系統(tǒng)集成和應用”，討論題目涉及3D ICs/生物芯片和可穿戴設備、系統(tǒng)架構、低功耗電路、可靠和測試等。