LED專利保衛(wèi)戰(zhàn)之首爾半導(dǎo)體完勝日本Enplas公司

　　首爾半導(dǎo)體在專利侵權(quán)案中勝訴，日本鏡頭廠商Enplas公司侵犯首爾半導(dǎo)體的LED背光鏡技術(shù)。

　　2013年10月，Enplas公司在美國加利福尼亞州的聯(lián)邦法院起訴首爾半導(dǎo)體公司，尋求宣告式判決。Enplas公司聲稱其產(chǎn)品沒有侵犯首爾半導(dǎo)體的LED背光鏡專利及背光系統(tǒng)專利。Enplas還要求法庭宣布首爾半導(dǎo)體的背光鏡專利無效。2014年4月，首爾曾為保護自己的專利提起訴訟。在2014年4月的訴訟案中，法庭宣判Enplas公司侵犯了首爾半導(dǎo)體的專利。

　　2016年3月24日，加利福尼亞聯(lián)邦陪審團裁定，Enplas公司侵犯首爾半導(dǎo)體的專利技術(shù)。陪審團一致否決Enplas公司的專利無效請求，并宣布首爾半導(dǎo)體的LED背光鏡專利有效。陪審團裁決Enplas公司給予首爾半導(dǎo)體407萬美元的侵權(quán)損害賠償。

　　首爾半導(dǎo)體的專利保護之戰(zhàn)：

　　首爾半導(dǎo)體 VS 柯蒂斯

　　2015年12月8日，首爾半導(dǎo)體宣布向美國聯(lián)邦地區(qū)法庭提交的加拿大電子公司柯蒂斯國際(Curtis International)LED背光單元產(chǎn)品專利出售涉及侵權(quán)首爾半導(dǎo)體技術(shù)專利進入決議階段。

　　作為庭外和解協(xié)議的一部分，柯蒂斯公司同意尊重首爾半導(dǎo)體知識產(chǎn)權(quán)，支付所有產(chǎn)品的專利權(quán)使用許可費，并停止使用未經(jīng)授權(quán)的LED侵權(quán)產(chǎn)品。七個專利技術(shù)侵權(quán)涉及范圍廣泛，包括但不僅限于背光單元、LED封裝、LED芯片、LED外延片層以及黑洞透鏡等。

　　首爾半導(dǎo)體 VS 克雷格電子

　　除了柯蒂斯公司的案件，首爾半導(dǎo)體最近在一系列LED和鏡頭產(chǎn)品背光技術(shù)專利糾紛中勝訴。2015年7月，首爾半導(dǎo)體起訴美國電子公司克雷格電子(Craig Electronics)的專利侵權(quán)訴訟完成終審判決。

　　作為判決的一部分，克雷格電子承認(rèn)公司侵犯了首爾半導(dǎo)體的所有專利及專利的有效性。克雷格電子同意支付授權(quán)許可費用，并停止使用未經(jīng)授權(quán)的LED侵權(quán)產(chǎn)品。

　　首爾半導(dǎo)體 VS Enplas公司

　　此外，首爾半導(dǎo)體還提交了起訴Enplas公司三個背光鏡頭專利侵權(quán)的雙方復(fù)審程序(inter partes review)請愿書。這三個知識產(chǎn)權(quán)請愿書均移交美國上訴委員會(PTAB)進行終審判決。

　　美國專利審判院在9月11日以Enplas(恩普樂斯)的背景光透鏡專利不具有新穎性和進步性為由，對審查對象的全部權(quán)利要求做出無效判決，并對Enplas(恩普樂斯)的另外兩項透鏡專利也于10月15日以相同的理由全部宣判無效。這種將三項審查對象權(quán)利要求全部無效的做法非常罕見。