盤點(diǎn)用了三星14nm FinFET 制程的產(chǎn)品

　　圖6提供了一個(gè)線索。透過圖6分別描繪出針對幾個(gè)先進(jìn)邏輯元件所測得的實(shí)體層閘極長度、制造商所宣稱的制程節(jié)點(diǎn)，以及晶體管的接觸閘間距。晶體管以130nm節(jié)點(diǎn)進(jìn)行制造時(shí)，較大的閘極長度更接近制程節(jié)點(diǎn)。但從110nm到65nm，閘極長度微縮的速度較制程節(jié)點(diǎn)更快速，也比制程節(jié)點(diǎn)更短。至于45 nm及其更小的制程，閘極長度的微縮速率則減緩。

　　我們還為相同的元件繪制出接觸閘間距，這一間距長度是制程節(jié)點(diǎn)的3.3倍，而且所有的制程節(jié)點(diǎn)在這一點(diǎn)上都是一樣的。我們還發(fā)現(xiàn)最小的金屬間距也可擴(kuò)展到大約3倍的制程節(jié)點(diǎn)。

　　我們經(jīng)常使用接觸閘間距和6T SRAM單元面積來代表制程節(jié)點(diǎn);但這導(dǎo)致了一個(gè)問題：所謂的16nm或14nm制程節(jié)點(diǎn)真的是這樣的節(jié)點(diǎn)尺寸嗎?例如，三星的鰭片間距、閘極長度、接觸閘間距以及6T SRAM單元面積，都比英特爾的14nm更大，其6T SRAM單元面積也比臺積電的16nm SRAM更大。那么，它究竟是不是真的14nm制程?

　　我們之中有一名工程師認(rèn)為，鰭片間距最接近于制程節(jié)點(diǎn)，就像我們在DRAM中看到的主動間距以及在NAND快閃記憶體中的STI間距一樣。我們在表1中列出了英特爾、三星與臺積電16/14nm元件的1/3鰭間距，這看起來的確更能代表制程節(jié)點(diǎn)。

　　圖6：晶體管閘極長度、接觸閘間距與制程節(jié)點(diǎn)的比較

　　那么，我們應(yīng)該可期待三星新一代的LPP制程有些什么變化?三星在最近的新聞發(fā)布中提到LPP制程將可提高15%的晶體管開關(guān)速度，同時(shí)降低15%的功耗。這些都是透過增加晶體管的鰭片高度以及增強(qiáng)應(yīng)變工程而實(shí)現(xiàn)的。而我則預(yù)期還會有一點(diǎn)點(diǎn)的制程微縮，從而使其晶體管尺寸與6T SRAM單元面積更接近于英特爾的14nm制程節(jié)點(diǎn)。