納米電測量的實(shí)例分析II
半導(dǎo)體納米線被視為一種實(shí)現(xiàn)納米電子元器件[2](如晶體管或者邏輯門)間互聯(lián)的方法,目前的研究是針對硅、砷化鎵、氮化鎵及其他3-5族材料進(jìn)行的。研究者們需要了解,若要讓這些線實(shí)用化,其電阻率、總體的均勻性、可靠性和電流承載能力究竟如何。因為這些器件非常微小,測量必須在很弱的電流下進(jìn)行,這就要求設(shè)備能輸出和測量低至nA水平的電流信號。在這樣弱的電流上進(jìn)行電阻測量,就需要同時采用低壓測量儀器,并用一個4線方法[3]來剔除測量系統(tǒng)的引線電阻。輸出微小的電流也減少了線上的I2R以及對其造成損害的可能性。
針對納米互聯(lián)用的聚合物的研究工作也很可觀。因為這些一般是高阻性的材料,它們的電阻往往通過輸出電壓信號和測量相應(yīng)的電流來測量,這樣的電流可能處于fA范圍。要保證精度,就必須注意降低和消除測試系統(tǒng)中的任何過大的電流,例如由摩擦起電效應(yīng)[4]、電化學(xué)效應(yīng)[5]、電纜連接以及靜電電荷所造成的噪聲。
為了保護(hù)納米級樣品不受靜電放電的損傷,可以使用一個由板狀金屬或者網(wǎng)格制作的法拉第籠。在一個封閉的、空心的導(dǎo)體中的電場為零,故放入其中的物體將被屏蔽,免受任何大氣中的或者雜散的電場的影響。
現(xiàn)在的許多儀器還可以提供必備的電阻測量功能。對于小電阻測量而言,具有nV計的、可以提供電流信號并測量低電壓的源-測量一體單元是適當(dāng)?shù)脑O(shè)備。對于高電阻測量,建議采用靜電計和fA以下的信號源-測量一體單元。最新的I-V特性測量工具常常能同時測量低和高電阻,當(dāng)努力通過添加更多的導(dǎo)電材料,如碳納米管,來提升高阻材料[6]的電導(dǎo)率時,這就顯得極為有利。
說到材料,許多納米科學(xué)的研究者正在創(chuàng)制專用紙張或者薄膜類材料,他們需要理解這些研究對象的表面和體電阻率與電導(dǎo)率特性。同樣的,弱電流和高電阻常常是待測的特性。這些測量需要采用針對扁平材料測量而設(shè)計的專用測試夾具。
測量電阻,然后考慮到幾何尺寸等因素,就可以將其轉(zhuǎn)換為表面或者體電阻率,就可以確定材料電阻率參數(shù)。測量絕緣材料的電阻的最佳方式,是向樣品施加一個已知的電勢,并用靜電計或者pA計來測量相應(yīng)的電流。
體電阻率用于衡量直接流過一個材料的漏電流。它定義為穿過一個一立方厘米絕緣材料的電阻,單位是歐姆·厘米。在測量體電阻率時,測試樣品被置于兩個電極之間,在兩個電極間施加一個電勢差。所產(chǎn)生的電流分布將穿透整個測試樣品的體積,并被一個pA計測量出來。
表面電阻定義為一個絕緣體的表面的電阻,以歐姆為單位(往往被稱為歐姆/方塊)。它的測量方法是,在測試樣品的表面上放置兩個電極,在電極間施加電勢差[7],并測量相應(yīng)的電流。
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