尼康起訴ASML和卡爾蔡司光刻技術(shù)侵權(quán) 要求賠償

　　北京時間4月24日晚間消息，尼康今日宣布，已對荷蘭半導(dǎo)體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商阿斯麥(ASML)和德國光學(xué)及光電子學(xué)設(shè)備廠商卡爾蔡司(Carl Zeiss)提起訴訟，指控這兩家公司未經(jīng)授權(quán)而使用其光刻技術(shù)。

　　尼康稱，已在荷蘭、德國和日本對阿斯麥和卡爾蔡司提起訴訟?？柌趟臼前⑺果湹墓鈱W(xué)設(shè)備供應(yīng)商。尼康在一份聲明中稱：“阿斯麥和卡爾蔡司在未經(jīng)尼康許可的前提下，在阿斯麥的光刻系統(tǒng)中使用尼康的專利技術(shù)。”

　　當前，光刻系統(tǒng)被廣泛應(yīng)用于制造半導(dǎo)體，而阿斯麥又主導(dǎo)著半導(dǎo)體光刻機市場。評級機構(gòu)“惠譽評級”(Fitch Ratings)今年1月發(fā)布的調(diào)研報告顯示，在高端光刻機市場，阿斯麥的份額高達90%。

　　尼康在訴訟文件中稱，要求阿斯麥和卡爾蔡司對未授權(quán)使用專利技術(shù)而做出賠償。

　　對此，阿斯麥總裁兼CEO彼得·溫尼克(Peter Wennink)稱：“尼康的訴訟毫無依據(jù)，沒有必要，為半導(dǎo)體市場制造了不確定性。”溫尼克還稱，阿斯麥曾多次試圖與尼康談判，希望能對當前的一份交叉授權(quán)協(xié)議進行延期。