DRAM行業(yè)深度報(bào)告:期待國產(chǎn)產(chǎn)能釋放改變?nèi)蚬┙o格局
存儲(chǔ)器市場爆發(fā),DRAM市場前景看好。2017年全球存儲(chǔ)器市場增長率達(dá)到60%,首次超越邏輯電路,成為半導(dǎo)體第一大產(chǎn)品。DRAM繼續(xù)保持半導(dǎo)體存儲(chǔ)器領(lǐng)域市占率第一。DRAM廠商中,三星、SK海力士和美光均采用IDM模式繼續(xù)保持壟斷地位,合計(jì)市占率超過95%,國產(chǎn)廠商開始積極布局,2018年將實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),有望逐步改變當(dāng)前產(chǎn)業(yè)格局。DRAM消費(fèi)產(chǎn)品中,移動(dòng)終端、服務(wù)器和PC依舊占據(jù)頭三名,合計(jì)占比86%,未來將繼續(xù)拉動(dòng)DRAM消費(fèi)增長。
本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/201805/379643.htm三星領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)明顯,傳統(tǒng)技術(shù)難以替代。三星于2017年開始量產(chǎn)第二代10nm級(jí)8Gb DDR4 DRAM,并持續(xù)擴(kuò)大整體10nm級(jí)DRAM的產(chǎn)能,繼續(xù)維持與其他DRAM大廠1-2年以上的技術(shù)差距。新型存儲(chǔ)器由于存在CMOS兼容問題和器件級(jí)變化性,且DRAM 的性價(jià)比高,技術(shù)成熟且具有規(guī)模優(yōu)勢(shì),預(yù)計(jì)未來5-10年內(nèi)難以被替代。同時(shí),由于DRAM的平面微縮接近極限并向垂直方向擴(kuò)展,18/16nm之后,薄膜厚度無法繼續(xù)縮減,且不適合采用高介電常數(shù)材料和電極,繼續(xù)在二維方向縮減尺寸已不再具備成本和性能方面的優(yōu)勢(shì),3D DRAM在寬松尺寸下能夠?qū)崿F(xiàn)高密度容量,且寄生阻容減少,延時(shí)串?dāng)_低,未來可能成為DRAM的演進(jìn)方向。
受益于需求增長拉動(dòng),DRAM保持量價(jià)齊增態(tài)勢(shì)。隨著5G商用逼近以及云計(jì)算、IDC業(yè)務(wù)的拉動(dòng),移動(dòng)終端、服務(wù)器和PC側(cè)的消費(fèi)需求增長明顯。各大廠商擴(kuò)產(chǎn)熱情不減,包括三星在韓國平澤的P1廠房和Line 15生產(chǎn)線,SK海力士的M14生產(chǎn)線,以及美光在廣島的Fab 15和Fab 16的擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃,但由于光刻技術(shù)接近瓶頸,良率問題日益突出以及新技術(shù)的出現(xiàn),各廠商工藝進(jìn)程都有所推遲,預(yù)計(jì)2018年全球DRAM產(chǎn)能增加10%,2018年DRAM依舊保持量價(jià)齊增態(tài)勢(shì)。
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風(fēng)險(xiǎn)提示:行業(yè)競爭加劇,需求增長不達(dá)預(yù)期。
評(píng)論