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          陶瓷電容耐壓不良失效分析

          作者: 時(shí)間:2018-08-08 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

          摘要:通過對(duì) NG 樣品、OK 樣品進(jìn)行了外觀光學(xué)檢查、金相切片分析、SEM/EDS 分析及模擬試驗(yàn)

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/201808/385971.htm

          分析,認(rèn)為造成陶瓷電容耐壓不良原因?yàn)槎伟饽K固化過程中及固化后應(yīng)力作用造成陶瓷

          -環(huán)氧界面存在間隙,導(dǎo)致其耐壓水平降低。

          注:

          1、NG=過程不良,應(yīng)用于生產(chǎn)制造管理

          2、SEM(scanning electron microscope):掃描式電子顯微鏡

          3、EDS(Energy Dispersive Spectrometer):X光微區(qū)分析

          關(guān)鍵詞:陶瓷電容 電容 耐壓不良 電容失效 電容失效分析 耐壓失效分析

          1. 案例背景陶瓷電容器客戶端耐壓不良。

          2.分析方法簡(jiǎn)述(1)通過對(duì) NG 樣品、OK 樣品進(jìn)行了外觀光學(xué)檢查、金相切片分析、SEM/EDS 分析及模擬試驗(yàn)后,發(fā)現(xiàn) NG 樣品均存在明顯的陶瓷-環(huán)氧界面脫殼,產(chǎn)生了氣隙,此氣隙的存在會(huì)嚴(yán)重影響電容的耐壓水平。 從測(cè)試結(jié)果,可以明顯看到在陶瓷-環(huán)氧分離界面的裂縫位置存在明顯的碳化痕跡,且碳化嚴(yán)重區(qū)域基本集中在邊緣封裝較薄區(qū)域,而 OK 樣品未見明顯陶瓷-環(huán)氧界面脫殼分離現(xiàn)象。

          (2)NG 樣品與 OK 樣品結(jié)構(gòu)成分一致,未見結(jié)構(gòu)明顯異常。失效的樣品是將未封樣品經(jīng)焊接組裝灌膠,高溫固化后組成單元模塊進(jìn)行使用的。取樣品外封環(huán)氧樹脂進(jìn)行玻璃轉(zhuǎn)化溫度測(cè)試,發(fā)現(xiàn)未封樣品的外封環(huán)氧樹脂玻璃轉(zhuǎn)化溫度較低,懷疑因?yàn)楣嗄z的高溫超過了陶瓷電容的環(huán)氧樹脂封體的玻璃轉(zhuǎn)化溫度,達(dá)到了其粘流態(tài),導(dǎo)致陶瓷基體和環(huán)氧界面脫粘產(chǎn)生氣隙。

          隨著環(huán)氧樹脂固化冷卻過程體積收縮,產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力以殘余應(yīng)力的形式保留在包封層中,并作用于陶瓷-環(huán)氧界面,劣化界面的粘結(jié),此時(shí)的形變就很難恢復(fù)。然后在外部電場(chǎng)力(耐壓加電測(cè)試)的作用下,在間隙路徑上產(chǎn)生了弱點(diǎn)擊穿。

          圖 1.樣品外觀典型外觀

          對(duì)委托方提供的樣品進(jìn)行金相切片,NG 樣品環(huán)氧樹脂封層和陶瓷基材分層明顯,兩電極間的裂縫通路上有碳化的痕跡,OK 樣品未見異常。

          樣品切片后,對(duì)剖切面進(jìn)行 SEM/EDS 分析,NG 樣品環(huán)氧樹脂和陶瓷基材分層明顯,且有明顯的碳化痕跡

          取未封 OK 樣品外層環(huán)氧樹脂材料若干,進(jìn)行 DSC 熱分析,檢測(cè)其 Tg 溫度點(diǎn)。

          注:DSC熱分析法(Differential Scanning calorimeter),又稱差示掃描量熱法,是六十年代以后研制出的一種熱分析方法。

          它是在程序控制溫度下,測(cè)量輸入到試樣和參比物的功率差與溫度的關(guān)系。差示掃描量熱儀記錄到的曲線稱DSC曲線。根據(jù)測(cè)量的方法的不同,又分為兩種類型:功率補(bǔ)償型DSC和熱流型DSC。它以樣品吸熱或放熱的速率,即熱流率dH/dt(單位毫焦/秒)為縱坐標(biāo),以溫度T或時(shí)間t為橫坐標(biāo),可以測(cè)定多種熱力學(xué)和動(dòng)力學(xué)參數(shù),例如比熱容、反應(yīng)熱、轉(zhuǎn)變熱、相圖、反應(yīng)速率、結(jié)晶速率、高聚物結(jié)晶度、樣品純度等。該法使用溫度范圍寬(-175~725℃)、分辨率高、試樣用量少。適用于無(wú)機(jī)物、有機(jī)化合物及藥物分析。

          3. 失效模式分析 (1)在電場(chǎng)作用下,陶瓷電容器的擊穿破壞遵循弱點(diǎn)擊穿理論,而局部放電是產(chǎn)生弱點(diǎn)破壞的根源。除因溫度冷熱變化產(chǎn)生熱應(yīng)力導(dǎo)致開裂外,對(duì)于環(huán)氧包封型高壓陶瓷電容,無(wú)論是留邊型還是滿銀型電容都存在著電極邊緣電場(chǎng)集中和陶瓷-環(huán)氧的結(jié)合界面等比較薄弱的環(huán)節(jié)。環(huán)氧包封陶瓷電容器由于環(huán)氧樹脂固化冷卻過程體積收縮,產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力以殘余應(yīng)力的形式保留在包封層中,并作用于陶瓷-環(huán)氧界面,劣化界面的粘結(jié)。在電場(chǎng)作用下,組成高壓陶瓷電容瓷體的鈣鈦礦型鈦酸鍶鐵類陶瓷(SPBT)會(huì)發(fā)生電機(jī)械應(yīng)力,產(chǎn)生電致應(yīng)變。當(dāng)環(huán)氧包封層的殘余應(yīng)力較大時(shí),二者聯(lián)合作用極可能造成包封與陶瓷體之間脫殼,產(chǎn)生氣隙,從而降低電壓水平。

          (2)介質(zhì)內(nèi)空洞:導(dǎo)致空洞產(chǎn)生的主要因素為陶瓷粉料內(nèi)的有機(jī)或無(wú)機(jī)污染、燒結(jié)過程控制不當(dāng)?shù)???斩吹漠a(chǎn)生極易導(dǎo)致漏電,而漏電又導(dǎo)致器件內(nèi)局部發(fā)熱,進(jìn)一步降低陶瓷介質(zhì)的絕緣性能從而導(dǎo)致漏電增加。該過程循環(huán)發(fā)生,不斷惡化,導(dǎo)致其耐壓水平降低。

          (3)包封層環(huán)氧材料因素:一般包封層厚度越厚,包封層破壞所需的外力越高。在同樣電場(chǎng)力和殘余應(yīng)力的作用下,陶瓷基體和環(huán)氧界面的脫粘產(chǎn)生氣隙較為困難。另外固化溫度的影響,隨著固化溫度的提高,高壓陶瓷電容的擊穿電壓會(huì)越高,因?yàn)楦邷毓袒瘯r(shí)可以較快并有效地減少殘余應(yīng)力。隨著整體模塊灌膠后固化的高溫持續(xù),當(dāng)達(dá)到或超過陶瓷電容器外包封層環(huán)氧樹脂的玻璃轉(zhuǎn)化溫度,達(dá)到了粘流態(tài),陶瓷基體和環(huán)氧界面的脫粘產(chǎn)生了氣隙,此時(shí)的形

          變就很難恢復(fù),這種氣隙會(huì)降低陶瓷電容的耐壓水平。

          (4)機(jī)械應(yīng)力裂紋:陶瓷體本身屬于脆性較高的材料,在產(chǎn)生和流轉(zhuǎn)過程中較大的應(yīng)力可能造成應(yīng)力裂紋,導(dǎo)致耐壓降低。常見的應(yīng)力源有:工藝過程電路板流轉(zhuǎn)操作;流轉(zhuǎn)過程中的人、設(shè)備、重力等因素;元件接插操作;電路測(cè)試;單板分割;電路板安裝;電路板定位鉚接;螺絲安裝等。

          4.結(jié)論綜合以上測(cè)試分析可知,導(dǎo)致樣品失效的原因?yàn)椋?/p>

          1).直接原因:陶瓷-環(huán)氧界面存在間隙,導(dǎo)致其耐壓水平降低。

          2).間接原因:a.二次包封模塊固化過程中產(chǎn)生了環(huán)氧材料應(yīng)力收縮,致使陶瓷-環(huán)氧界面劣化,形成了弱點(diǎn)放電的路徑。

          b.二次包封模塊固化后,樣品放置時(shí)間過短,其內(nèi)部界面應(yīng)力未完全釋放出來,在陶瓷-環(huán)氧界面存在微裂紋,導(dǎo)致耐壓水平降低。



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