國家半導(dǎo)體大基金二期募資2041億 國產(chǎn)EUV光刻機(jī)有望解決?
據(jù)報(bào)道,第二期國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金——也就是大基金,已經(jīng)在10月22日注冊(cè)成立,注冊(cè)資本高達(dá)2041.5億元,比第一期的1387.2億元高出一半多,最快11月份開始投資,這次投資重點(diǎn)是半導(dǎo)體裝備及材料行業(yè)。
本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/201910/406457.htm為了推動(dòng)半導(dǎo)體行業(yè)投資,2014年國務(wù)院發(fā)布《國家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》,提出要設(shè)立國家產(chǎn)業(yè)投資基金。2014 年9月24日,國家財(cái)政部、國開金融、中國煙草、亦莊國投、中國移動(dòng)、上海國盛、中國電子、中國電科、華芯投資等共同發(fā)起“國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金”,這就是俗稱的大基金。
目前,國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金(2014.09-2018.05)已經(jīng)投資完畢,共募得普通股987.2億元,同時(shí)發(fā)行優(yōu)先股400億元,總投資額為1387億元(相比于原先計(jì)劃的1200億元超募15.6%),公開投資公司為23家,累計(jì)有效投資項(xiàng)目達(dá)到70個(gè)左右。
據(jù)報(bào)道,大基金一期投資范圍涵蓋集成電路產(chǎn)業(yè)上、中、下游各個(gè)環(huán)節(jié),其中67%的投資投向了半導(dǎo)體制造,包括我們經(jīng)常聽到的長江存儲(chǔ)、中芯國際、長電科技、通富微電等制造、封測企業(yè),另外還有兆易創(chuàng)新、匯頂、景嘉微、紫光、國科微等半導(dǎo)體設(shè)計(jì)公司。
在一期大基金中,半導(dǎo)體裝備及材料行業(yè)也有投資,比如北方華創(chuàng)、中微半導(dǎo)體等,不過總體占比還是很少的,據(jù)悉這也是二期大基金的投資重點(diǎn)。
從之前的信息來看,2000多億的大基金二期除了會(huì)關(guān)注5G、AI人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等產(chǎn)業(yè)之外,重點(diǎn)還會(huì)投資半導(dǎo)體設(shè)備及材料,包括各種光刻機(jī)、蝕刻機(jī)、大硅片、光刻膠等等,它們?cè)诎雽?dǎo)體生產(chǎn)中也非常重要,目前國內(nèi)高端裝備主要依賴進(jìn)口,這方面主要是美國及日本廠商占主導(dǎo)地位,今年7月份日本限制三種半導(dǎo)體材料對(duì)韓國出口就是靠光刻膠、氟化氫等材料的領(lǐng)先地位。
以光刻機(jī)為例,目前最尖端的光刻機(jī)是荷蘭ASML公司的EUV光刻機(jī),每臺(tái)售價(jià)超過1.2億歐元,約合9-10億人民幣,國內(nèi)只有中芯國際購買了一臺(tái)用于7nm工藝研究。
目前國產(chǎn)光刻機(jī)只能做到90nm工藝級(jí)別,與先進(jìn)水平差距甚遠(yuǎn),而光刻機(jī)技術(shù)難度非常高,ASML公司也是聯(lián)合多個(gè)合作伙伴花了二三十年才取得成功的。
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