傳Intel Xe獨顯已亮機測試：14nm工藝 可戰(zhàn)GTX 1050

在周五的財報會議上，Intel首次了透露了旗下高性能Xe獨顯的進度， CEO司睿博宣布DG1 GPU達成了一個重要里程碑。

與此同時，從AMD跳槽到Intel的圖形及視覺技術(shù)市場總監(jiān)Chris Hook也發(fā)了一條推——It's alive，直譯起來意思是“它還活著”，但是這條推文實際上應(yīng)該是暗示Intel的Xe GPU已經(jīng)點亮測試了。

此前Intel高級副總Raja Koduri暗示明年6月份的臺北電腦展上會發(fā)布Xe獨顯，但后面又有消息說還是2020年下半年發(fā)布，只不過明年何時發(fā)布，現(xiàn)在這個時間點都應(yīng)該是流片驗證了，因為大型芯片流片驗證到發(fā)布通常需要一年左右的時間，Chris Hook的alive暗示DG1獨顯已經(jīng)進入測試階段了。

根據(jù)之前的爆料，Intel的DG1獨顯將基于Xe架構(gòu)，不過這是一款LP低功耗方向的顯卡，搭配GDDR6顯存，定位在GTX 1050級別的，后者是NVIDIA Pascal架構(gòu)的中低端顯卡，浮點性能1.9TFLOPS左右。

考慮到Intel目前的Gen11核顯的浮點性能已經(jīng)達到了1TFLOPS以上，Xe架構(gòu)會更先進一代，之前說是核顯級的Gen12（也是Xe架構(gòu)）性能再次翻倍，所以DG1達到2TFLOPS級別的性能應(yīng)該沒壓力。

不過DG1獨顯的工藝可能有點特殊，爆料顯示是14nm工藝，而Intel之前的暗示都是說Xe獨顯使用10nm工藝的。

話說回來，DG1如果是定位在入門級獨顯市場，那么使用成熟、低成本而且高性能的14nm工藝實際上更合適，所以不排除Intel在Xe獨顯上使用14nm工藝作為中低端GPU的生產(chǎn)工藝。

當然，2021年的時候Intel還會生產(chǎn)7nm工藝的Xe顯卡，不過這是給數(shù)據(jù)中心準備的高性能GPU，這樣一來Intel的Xe顯卡就集齊14mm、10nm、7nm三種工藝了。