三星最先進EUV產線投用：7nm產能今年增加兩倍

當前，有實力圍繞10nm以下先進制程較量的廠商僅剩下Intel、臺積電和三星三家。

2月20日，三星宣布，在韓國華城工業(yè)園新開一條專司EUV（極紫外光刻）技術的晶圓代工產線V1，最次量產7nm。

據悉，V1產線/工廠2018年2月動工，2019年下半年開始測試晶圓生產，首批產品今年一季度向客戶交付。

目前，V1已經投入7nm和6nm EUV移動芯片的生產工作，規(guī)劃未來可代工到最高3nm尺度。

根據三星安排，在2020年底前，V1產線的總投入將達60億美元，7nm以下先進工藝的總產能將是2019年的3倍。

三星制造業(yè)務總裁ES Jung博士認為，V1產線將和S3產線一道，幫助公司拓展客戶，響應市場需求。

至此，三星在全球已有6家晶圓廠，1家8英寸，5家12英寸。三星早先表示，2030年前累計拿出1200億美元夯實代工業(yè)務，成為全球領導者。