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	 > 業(yè)界動態(tài) > 三星率先為DRAM芯片導(dǎo)入EUV：明年將用于DDR5/LPDDR5大規(guī)模量產(chǎn)
          
    
          

          

          


	
	
	

          
	
          
		
          
			
          三星率先為DRAM芯片導(dǎo)入EUV：明年將用于DDR5/LPDDR5大規(guī)模量產(chǎn)
          
						
          
				作者：
				時間：2020-03-25
				來源：快科技 
				
				
				
				
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          當(dāng)前在芯片制造中最先進(jìn)的EUV（極紫外光刻）工藝被三星率先用到了DRAM內(nèi)存顆粒的生產(chǎn)中。
          本文引用地址：http://www.ex-cimer.com/article/202003/411342.htm
          這家韓國巨頭今日宣布，已經(jīng)出貨100萬第一代10nm EUV級（D1x）DDR4 DRAM模組，并完成全球客戶評估，這為今后高端PC、手機(jī)、企業(yè)級服務(wù)器等應(yīng)用領(lǐng)域開啟新大門。
          QQ截圖20200325180433
          得益于EUV技術(shù)，可以在精度更高的光刻中減少多次圖案化的重復(fù)步驟，并進(jìn)一步提升產(chǎn)能。
          三星表示，將從第四代10nm級（D1a）DRAM或高端級14nm級DRAM開始全面導(dǎo)入EUV，明年基于D1a大規(guī)模量產(chǎn)DDR5和LPDDR5內(nèi)存芯片，預(yù)計(jì)會使12英寸晶圓的生產(chǎn)率翻番。
          不過，目前支持DDR5的PC平臺尚未亮相，LPDDR5倒是已經(jīng)逐漸鋪開。三星量產(chǎn)的第一代EUV DDR5 DRAM單芯片容量為16Gb（2GB），地點(diǎn)是平澤市的V2線。
          根據(jù)三星此前的預(yù)判，EUV將幫助公司至少推進(jìn)到3nm尺度。
          
				
            
                
			
							
          
                
			              
              
            
          
		
          
		
          
		
          
		
          
		
          
			
            
				
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          關(guān)鍵詞：
            			            三星
                        DRAM
                        EUV
                        
            
          
            
			
          
		
          	
		

	

          
	
	
          
		
          
			
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