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          IBM眼里的芯片未來(lái)

          作者: 時(shí)間:2020-07-22 來(lái)源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察 收藏
          回到2014年,當(dāng)時(shí)的行業(yè)正在籠罩在摩爾定律即將終結(jié)的陰影下。彼時(shí),著手進(jìn)行了一項(xiàng)雄心勃勃的,耗資30億美元的項(xiàng)目——“ 7nm and Beyond ”。這項(xiàng)為期五年的研究項(xiàng)目的大膽目標(biāo)是,隨著減小芯片尺寸的物理學(xué)共同打擊計(jì)算技術(shù),該技術(shù)將如何在未來(lái)繼續(xù)發(fā)展。

           
          六年后,摩爾定律不再是一部和從前一樣的定律。戈登·摩爾(Gordon Moore)的觀察(后來(lái)是整個(gè)行業(yè)的觀察)表明,芯片上的晶體管數(shù)量大約每?jī)赡攴环?,這種規(guī)律現(xiàn)在看來(lái)已經(jīng)成為過(guò)去式了。但是,我們?nèi)匀恍枰?jì)算方面的創(chuàng)新,“7nm and Beyond”項(xiàng)目已經(jīng)幫助滿足了這一持續(xù)的需求。
           
          “尋找新的設(shè)備架構(gòu)以實(shí)現(xiàn)設(shè)備的微縮,以及尋找新的材料以實(shí)現(xiàn)性能差異的工作將永遠(yuǎn)不會(huì)結(jié)束,” 高級(jí)邏輯與存儲(chǔ)技術(shù)研究,半導(dǎo)體和AI硬件部門(mén)的主管Huiming Bu說(shuō)  。
           
          盡管芯片行業(yè)可能不會(huì)像過(guò)去那樣受到摩爾定律的束縛,但是“ 7nm and Beyond”項(xiàng)目已經(jīng)帶來(lái)了重要的創(chuàng)新,盡管最近一些芯片制造商似乎在很多方面都表示沮喪年份。
           
          這種挫敗的一個(gè)例子是兩年前GlobalFoundries決定中止其7納米芯片的開(kāi)發(fā)。
           
          早在2015年,即“ 7nm and Beyond”項(xiàng)目的一年,宣布了其首款7納米測(cè)試芯片,其中由ASML提供的 極紫外光刻(EUV)是一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)。盡管使用EUV的痛苦不斷增加,結(jié)果是最富有的芯片制造商是唯一繼續(xù)進(jìn)行其縮小規(guī)模的制造商,但此后,它不僅成為7納米節(jié)點(diǎn)的關(guān)鍵實(shí)現(xiàn)技術(shù),而且成為了關(guān)鍵的實(shí)現(xiàn)技術(shù)。Huiming Bu說(shuō),它適用于5納米及以上的節(jié)點(diǎn)。
           
          “在2014-2015年的時(shí)間窗口中,整個(gè)行業(yè)對(duì)EUV技術(shù)的實(shí)際可行性存在很大的疑問(wèn),” Bu說(shuō)?!艾F(xiàn)在這不是問(wèn)題?,F(xiàn)在,EUV已成為主流推動(dòng)者。當(dāng)時(shí),我們基于EUV交付了第一款7納米技術(shù),這有助于建立對(duì)我們行業(yè)中EUV制造的信心和動(dòng)力?!?/section>
           
          當(dāng)然,EUV已經(jīng)啟用了7納米節(jié)點(diǎn),但是IBM的目標(biāo)是超越此范圍。IBM認(rèn)為,實(shí)現(xiàn)超越FinFET的規(guī)模擴(kuò)展的芯片基礎(chǔ)元素將是納米片晶體管,有些人甚至認(rèn)為這可能是摩爾定律的最后一步。
           
          納米片似乎是FinFET架構(gòu)的替代品,并有望實(shí)現(xiàn)從7納米和5納米節(jié)點(diǎn)到3納米節(jié)點(diǎn)的過(guò)渡。在納米片場(chǎng)效應(yīng)晶體管的體系結(jié)構(gòu)中,電流流經(jīng)被晶體管柵極完全圍繞的多個(gè)硅堆疊。這種設(shè)計(jì)大大減少了在關(guān)閉狀態(tài)下可能泄漏的電流量,從而允許在開(kāi)關(guān)打開(kāi)時(shí)使用更多電流來(lái)驅(qū)動(dòng)設(shè)備。
           
          Bu說(shuō):“ 2017年,業(yè)界對(duì)FinFET之后的新器件結(jié)構(gòu)會(huì)是什么保留疑問(wèn)”?!叭曛?,整個(gè)行業(yè)正在追逐納米片技術(shù),并認(rèn)為他們將成為FinFET之后的下一個(gè)器件結(jié)構(gòu)?!?/section>
           
          晶體管和開(kāi)關(guān)已經(jīng)取得了一些關(guān)鍵的進(jìn)展,但是“ 7nm and Beyond”項(xiàng)目也使人們對(duì)如何將所有這些晶體管和開(kāi)關(guān)之上的布線發(fā)展到未來(lái)有了一些重要的見(jiàn)解。
           
          IBM研究員Daniel Edelstein說(shuō):“我們的創(chuàng)新之一就是盡可能擴(kuò)大銅線 ”,Edelstein進(jìn)一步指出:“與往常一樣,最困難的部分只是在對(duì)這些極其微小和高大的溝槽進(jìn)行圖案化,并用銅填充它們而沒(méi)有缺陷?!?/section>
           
          盡管使用銅存在挑戰(zhàn),但Edelstein認(rèn)為該行業(yè)不會(huì)在不久的將來(lái)從銅轉(zhuǎn)向更奇特的材料。Edelstein表示:“對(duì)于今天正在制造的產(chǎn)品,銅肯定不會(huì)走到盡頭?!?/section>
           
          他補(bǔ)充說(shuō):“幾家公司表示他們打算繼續(xù)使用它。因此,我無(wú)法確切告訴您何時(shí)中斷。但是我們已經(jīng)看到,所謂的阻力交叉點(diǎn)一直在推向未來(lái)?!?/section>
           
          盡管芯片尺寸,架構(gòu)和材料推動(dòng)了“ 7nm and Beyond”項(xiàng)目的許多創(chuàng)新,但Edelstein和Bu都指出,人工智能(AI)在它們走向計(jì)算未來(lái)的方式中也起著關(guān)鍵作用。。
           
          “隨著AI,大腦啟發(fā)式計(jì)算和其他類型的非數(shù)字計(jì)算的出現(xiàn),我們開(kāi)始在研究級(jí)別開(kāi)發(fā)其他設(shè)備,特別是新興的存儲(chǔ)設(shè)備,” Edelstein說(shuō)。
           
          Edelstein指的是新出現(xiàn)的存儲(chǔ)器設(shè)備中,諸如相變存儲(chǔ)器(或  “ 憶阻器,” 與一些其他引用它們),這被認(rèn)為作為模擬計(jì)算設(shè)備。
           
          這些新的存儲(chǔ)設(shè)備的出現(xiàn)為思考傳統(tǒng)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)之上的潛在應(yīng)用提供了一種復(fù)興。研究人員正在構(gòu)想具有30年歷史的磁阻隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(MRAM)的新角色,自MRAM首次亮相以來(lái),IBM一直在致力于這一工作。
           
          “ MRAM終于有了足夠的突破,不僅可以制造,而且還滿足了與SRAM競(jìng)爭(zhēng)系統(tǒng)緩存所需的各種要求,這最終是一個(gè)圣杯,” Edelstein說(shuō)。
           
          去年,芯片設(shè)備制造商應(yīng)用材料公司(Applied Materials)向客戶提供了實(shí)現(xiàn)這種改變的工具,這證明了將MRAM和其他非易失性存儲(chǔ)器(包括RRAM和相變存儲(chǔ)器)直接嵌入處理器的證據(jù)。
           
          Bu表示,IBM將繼續(xù)追求新設(shè)備,新材料和新計(jì)算架構(gòu)以實(shí)現(xiàn)更好的電源性能。他還認(rèn)為,將各種組件集成到整體計(jì)算系統(tǒng)中的需求開(kāi)始推動(dòng)異構(gòu)集成的全新世界。
           
          Bu補(bǔ)充說(shuō):“構(gòu)建這些異構(gòu)體系結(jié)構(gòu)系統(tǒng)將成為未來(lái)計(jì)算的關(guān)鍵。這是受AI需求驅(qū)動(dòng)的新創(chuàng)新策略?!?/section>

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202007/415966.htm




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