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          美光出貨全球首款 176 層 NAND,實(shí)現(xiàn)閃存性能和密度的重大突破

          —— 新款 3D NAND 產(chǎn)品將進(jìn)一步提升移動(dòng)設(shè)備、汽車(chē)、客戶(hù)端 (PC) 和數(shù)據(jù)中心等應(yīng)用的存儲(chǔ)能力
          作者: 時(shí)間:2020-11-12 來(lái)源:電子產(chǎn)品世界 收藏

          內(nèi)存和存儲(chǔ)解決方案領(lǐng)先供應(yīng)商 Micron Technology Inc.(美光科技股份有限公司)近日宣布已批量出貨全球首款 176 層 3D NAND 閃存,一舉刷新行業(yè)紀(jì)錄,實(shí)現(xiàn)閃存產(chǎn)品密度和性能上的重大提升。 美光全新的 176 層工藝 與先進(jìn)架構(gòu)共同促成了此項(xiàng)重大突破,使數(shù)據(jù)中心、智能邊緣平臺(tái)和移動(dòng)設(shè)備等一系列存儲(chǔ)應(yīng)用得以受益,實(shí)現(xiàn)性能上的巨大提升。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202011/420228.htm

          美光技術(shù)與產(chǎn)品執(zhí)行副總裁 Scott DeBoer 表示:“美光的 176 層 NAND 樹(shù)立了閃存行業(yè)的新標(biāo)桿,與最接近的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手同類(lèi)產(chǎn)品相比,堆疊層數(shù)多出近 40%。結(jié)合美光的 CMOS 陣列下 (CMOS-under-array) 架構(gòu),該項(xiàng)技術(shù)幫助美光繼續(xù)在成本方面保持行業(yè)領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)?!?nbsp;  

          該款 176 層 NAND 產(chǎn)品采用美光第五代 3D NAND 技術(shù)和第二代替換柵極架構(gòu),是市場(chǎng)上最先進(jìn)的 NAND 技術(shù)節(jié)點(diǎn)。與美光的上一代大容量 3D NAND 產(chǎn)品相比,176 層 NAND 將數(shù)據(jù)讀取和寫(xiě)入延遲縮短了 35% 以上,極大地提高了應(yīng)用的性能。[1] 美光的 176 層 NAND 采用緊湊型設(shè)計(jì),裸片尺寸比市場(chǎng)最接近同類(lèi)產(chǎn)品縮小近 30%,是滿(mǎn)足小尺寸應(yīng)用需求的理想解決方案。

          采用突破性技術(shù),發(fā)揮閃存巨大潛力,服務(wù)多元化市場(chǎng)

          美光執(zhí)行副總裁兼首席業(yè)務(wù)官 Sumit Sadana 表示:“采用美光的 176 層 NAND 后,我們的客戶(hù)將實(shí)現(xiàn)突破性的產(chǎn)品創(chuàng)新。我們將在廣泛的產(chǎn)品組合中部署這項(xiàng)技術(shù),在 NAND 應(yīng)用的各個(gè)領(lǐng)域中實(shí)現(xiàn)價(jià)值,重點(diǎn)把握 5G、人工智能、云和智能邊緣領(lǐng)域的增長(zhǎng)機(jī)會(huì)?!?/p>

          美光 176 層 NAND 擁有全面設(shè)計(jì)和行業(yè)首屈一指的密度,應(yīng)用廣泛,在多個(gè)行業(yè)將不可或缺,包括移動(dòng)設(shè)備存儲(chǔ)、自動(dòng)駕駛系統(tǒng)、車(chē)載信息娛樂(lè)以及客戶(hù)端 (PC) 和數(shù)據(jù)中心的固態(tài)硬盤(pán) (SSD)。

          美光 176 層 NAND 的服務(wù)質(zhì)量 (QoS[2]) 進(jìn)一步提升, 這對(duì)數(shù)據(jù)中心 SSD 的設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)而言至關(guān)重要[3]——它能更快應(yīng)對(duì)數(shù)據(jù)密集型環(huán)境和工作負(fù)載,例如數(shù)據(jù)湖、人工智能 (AI) 引擎和大數(shù)據(jù)分析。對(duì)于 5G 智能手機(jī)而言,提升的 QoS 意味著多個(gè)應(yīng)用程序啟動(dòng)和切換更加快速,帶來(lái)流暢、反應(yīng)迅速的移動(dòng)體驗(yàn),真正實(shí)現(xiàn)多任務(wù)處理和 5G 低延遲網(wǎng)絡(luò)的充分利用。

          在開(kāi)放式 NAND 閃存接口 (ONFI) 總線(xiàn)上,美光第五代 3D NAND 也實(shí)現(xiàn)了行業(yè)領(lǐng)先的 1600 MT/秒最大數(shù)據(jù)傳輸速率,比此前提升了 33%[4]。更快的 ONFI 速度意味著系統(tǒng)啟動(dòng)更迅速、應(yīng)用程序性能更出眾。在汽車(chē)應(yīng)用中,這種速度將讓車(chē)載系統(tǒng)在發(fā)動(dòng)機(jī)啟動(dòng)后近乎即時(shí)地響應(yīng),從而為用戶(hù)帶來(lái)更好的體驗(yàn)。

          美光正與業(yè)界開(kāi)發(fā)者合作,將新產(chǎn)品快速應(yīng)用到解決方案中。為了簡(jiǎn)化固件開(kāi)發(fā),美光 176 層 NAND 提供單流程 (single-pass) 寫(xiě)算法,使集成更為便捷,從而加快方案上市時(shí)間。

          創(chuàng)新架構(gòu),實(shí)現(xiàn)出眾的密度和成本優(yōu)勢(shì)

          隨著摩爾定律逐漸逼近極限,美光在 3D NAND 領(lǐng)域的創(chuàng)新對(duì)確保行業(yè)滿(mǎn)足數(shù)據(jù)增長(zhǎng)需求至關(guān)重要。為了實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo),美光開(kāi)創(chuàng)性地結(jié)合了堆棧式替換柵極架構(gòu)、創(chuàng)新的電荷捕獲技術(shù)和 CMOS 陣列下 (CuA)[5] 技術(shù)。美光的 3D NAND 專(zhuān)家團(tuán)隊(duì)利用專(zhuān)有的 CuA 技術(shù)取得了大幅進(jìn)步,該技術(shù)在芯片的邏輯器件上構(gòu)建了多層堆棧,將更多內(nèi)存集成封裝在更緊湊的空間中,極大縮小了 176 層 NAND 的裸片尺寸,提升了單片晶圓的存儲(chǔ)容量。

          同時(shí),美光還將 NAND 單元技術(shù)從傳統(tǒng)的浮動(dòng)?xùn)艠O過(guò)渡到電荷捕獲,提高了未來(lái) NAND 的可擴(kuò)展性和性能。除了電荷捕獲技術(shù),美光還采用了替換柵極架構(gòu),利用其中的高導(dǎo)電性金屬字線(xiàn)[6] 取代硅層,實(shí)現(xiàn)了出類(lèi)拔萃的 3D NAND 性能。采用該技術(shù)后,美光將大幅度降低成本,繼續(xù)領(lǐng)跑業(yè)界。

          通過(guò)采用這些先進(jìn)技術(shù),美光提升了產(chǎn)品耐用度,這將使各種寫(xiě)入密集型應(yīng)用特別受益,例如航空航天領(lǐng)域的黑匣子以及視頻監(jiān)控錄像等。在移動(dòng)設(shè)備存儲(chǔ)中,176 層 NAND 的替換柵極架構(gòu)可將混合工作負(fù)載性能提高 15%[7],從而支持超快速邊緣計(jì)算、增強(qiáng)型人工智能推理以及圖像顯示細(xì)膩的實(shí)時(shí)多人游戲。

          供應(yīng)情況

          美光 176 層三層單元 (TLC) 3D NAND 已在美光新加坡晶圓制造工廠(chǎng)量產(chǎn)并向客戶(hù)交付,包括通過(guò)其 英睿達(dá) (Crucial) 消費(fèi)級(jí) SSD 產(chǎn)品線(xiàn)。美光將在 2021 日歷年推出基于該技術(shù)的更多新產(chǎn)品。

          資源

          ●   產(chǎn)品頁(yè)面: 176 層 NAND 

          ●   博客: 再次挑戰(zhàn)“不可能” - 美光出貨 176 層 NAND 

          ●   白皮書(shū): 美光向下一代 3D NAND 替換柵極技術(shù)過(guò)渡 


          [1]   對(duì)比數(shù)據(jù)基于美光大容量浮動(dòng)?xùn)艠O 96 層 NAND。如對(duì)比 128 層替換柵極 NAND,美光 176 層 NAND產(chǎn)品的數(shù)據(jù)讀取和寫(xiě)入延遲均降低 25% 以上。

          [2]   服務(wù)質(zhì)量 (QoS) 特指SSD響應(yīng)時(shí)間的穩(wěn)定性和可預(yù)測(cè)性。

          [3]   與美光96層大容量浮動(dòng)?xùn)艠ONAND相比,服務(wù)質(zhì)量提升來(lái)自于區(qū)塊尺寸及讀取延遲波動(dòng)的縮減。

          [4]   提升數(shù)據(jù)來(lái)自與美光前兩代3D NAND (96層NAND和128層NAND) 最大數(shù)據(jù)傳輸速率1,200 MT/s的對(duì)比。

          [5]   CMOS 即互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體。

          [6]   字線(xiàn)連接 NAND 內(nèi)存陣列中每個(gè)存儲(chǔ)元件的柵極,用于選擇、編程和擦除 NAND 內(nèi)存陣列中的內(nèi)存單元組。

          [7]   該數(shù)據(jù)源自與采用 96 層浮動(dòng)?xùn)艠O NAND的美光上一代UFS3.1多芯片封裝對(duì)比。



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