俄羅斯正在開發(fā)可替代光刻機的芯片制造工具

近期，俄羅斯國際新聞通訊社報道，俄羅斯在開發(fā)可以替代光刻機的芯片制造工具。據(jù)悉，圣彼得堡理工大學(xué)的研究人員開發(fā)出了一種“光刻復(fù)合體”，可用于蝕刻生產(chǎn)無掩模芯片，這將有助于俄羅斯在微電子領(lǐng)域技術(shù)領(lǐng)域獲得主動權(quán)。

該設(shè)備綜合體包括用于無掩模納米光刻和等離子體化學(xué)蝕刻的設(shè)備，其中一種工具的成本為500萬盧布（約36.7萬元人民幣），另一種工具的成本未知。

開發(fā)人員介紹，傳統(tǒng)光刻技術(shù)需要使用專門的掩膜板來獲取圖像。該裝置由專業(yè)軟件控制，可實現(xiàn)完全自動化，隨后的另外一臺設(shè)備可直接用于形成納米結(jié)構(gòu)，但也可以制作硅膜，例如用于艦載超壓傳感器。

這不是俄羅斯首次對外公布有關(guān)光刻機的消息， 2022年10月，俄羅斯科學(xué)院下諾夫哥羅德應(yīng)用物理研究所就宣布朝光刻機領(lǐng)域展開工作，該研究所希望能開發(fā)俄羅斯首臺本土光刻機，用以生產(chǎn)7納米拓撲芯片。對此，業(yè)界認為，這需要數(shù)年時間才能實現(xiàn)。