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          用于模擬IC設計的小信號MOSFET模型

          作者:時間:2024-01-26來源:EEPW編譯收藏

          的小信號特性在設計中起著重要作用。在本文中,我們將學習如何對的小信號行為進行建模。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202401/455123.htm

          正如我們在上一篇文章中所解釋的那樣,對于現代設計至關重要。然而,那篇文章主要關注MOSFET的大信號行為。通常使用MOSFET進行小信號放大和濾波。為了充分理解和分析MOS電路,我們需要定義MOSFET的小信號行為。

          什么是小信號分析?

          當我們說“小信號”時,我們的確切意思是?為了定義這一點,讓我們參考圖1,它顯示了逆變器的輸出傳遞特性。

          逆變器的傳輸特性。

           1.png

          圖1 逆變器的傳輸特性

          假設:

          VIN和VOUT都是直流電壓。

          VIN的值意味著我們正在偏置點(標記為紅色)運行。

          在小信號分析中,我們在直流偏置電壓上施加一個非常小的交流信號(ΔVIN)。根據偏置點處的傳遞特性的斜率(–AV),放大產生的交流輸出電壓:

           2.png

          方程式1

          請注意,由于斜率的方向不同,-AV僅為負值。我們將在本文稍后部分再回到AV。目前,重要的是偏置點(大信號行為)會影響輸出信號接收到的增益量(小信號行為)。

          小信號參數

          在我們對電路的行為進行建模之前,我們需要定義我們的參數。MOSFET的主要小信號參數是:

          跨導(gm)

          輸出電阻(ro)

          固有增益(AV)

          體效應跨導(gmb)

          單位增益頻率(fT)

          除了fT,我們將在創建高頻MOSFET模型之前不討論它,我們將在接下來的部分中定義和推導上述每個術語。我們將首先研究I-V特性,跨導。

          跨導(電導)

          正如我們所知,MOSFET將輸入電壓轉換為輸出電流。小信號輸出電流與小信號輸入電壓的比率稱為跨導(gm)。我們也可以將跨導視為輸出電流對柵源電壓的導數。

          跨導在線性區域可以定義為:

           3.png

          方程式2

          對于飽和區域,為:

           4.png

          方程式3

          其中:

          ID是漏極電流

          VGS是柵源電壓

          VDS是漏極到源極電壓

          Vth是閾值電壓

          μ是晶體管遷移率

          Cox是柵極氧化物電容

          W是晶體管的寬度

          L是晶體管的長度。

          這兩個方程式為我們帶來了幾個有趣的地方:

          在線性區域,晶體管的電流增益取決于輸出電壓。它根本不取決于輸入信號。這在實踐中并不理想,因為增益將在工作范圍內發生巨大變化。

          在飽和狀態下,跨導僅取決于輸入電壓。

          短而寬的器件在給定的輸入偏置電壓下使電流增益最大化。

          輸出電阻

          下一個感興趣的參數是輸出電阻(ro)。這被定義為晶體管的漏極-源極電壓相對于漏極電流的變化。我們可以通過繪制漏極電流與VDS的關系圖來找到輸出電阻。所得直線的斜率等于ro的倒數。

          讓我們看一下圖2中的圖。我們首先在之前的一篇關于MOSFET結構和操作的文章中看到了這個圖,它幫助我們比較了NMOS和PMOS晶體管的漏極電流。

          NMOS和PMOS晶體管的漏極電流與漏源極電壓的關系。

           5.png

          圖2:NMOS和PMOS晶體管的漏電流與VDS的關系。W / L = 10 μm / 2 μm。

          MOSFET在線性區域時輸出電阻較小,在飽和區域時輸出電阻較大。在上圖中,NMOS和PMOS晶體管在約1.5 V時進入飽和狀態。

          因為正如我們在跨導中看到的那樣,飽和區提供了更好的小信號性能,我們只關心晶體管處于飽和狀態時的輸出電阻。我們可以計算為:

           6.png

          方程式4

          其中λ是信道長度調制。

          當考慮到飽和時I-V曲線的斜率由通道長度調制引起時,ro和λ之間的關系是有意義的。等式4還告訴我們:

          Ro隨漏極電流(ID)而減小。

          由于上述原因,ro隨超速電壓(VD,sat)而降低。

          ro隨著晶體管長度(L)的增加而增加。

           

          固有增益

          現在我們知道晶體管的輸出電阻和電流增益,我們可以計算它的最大電壓增益。這也被稱為晶體管的固有增益(AV)。為了更好地理解固有增益的概念,讓我們來看看圖3中的共源放大器配置

          配置為共源極放大器的NMOS晶體管的電路圖。

           7.png

          圖3:配置為共源極放大器的NMOS晶體管。

          由于理想電流源具有無窮大的電阻,因此該電路的小信號輸出傳遞函數可以計算為:

           8.png

          方程式5

          從方程式3和4中,我們可以看到gm和ro與漏極電流呈反比。利用這一知識,我們可以找到一個漏極電流的最佳值,使單個晶體管產生最大的增益——換句話說,它的固有增益。對于現代工藝,固有增益通常在5到10之間。

          體效應跨導

          我們需要推導的最后一個小信號參數是體效應跨導(gmb),它描述了體效應如何影響漏極電流。我們可以計算如下:

           9.png

          方程式6

          其中η是背柵跨導參數,通常取值在0到3之間。

          低頻和高頻模型

          現在我們已經定義了我們的參數,我們可以建立一個電路模型,表示晶體管的小信號操作。圖4描繪了MOSFET在低頻的小信號行為。

          小信號MOSFET模型,適用于低頻操作。

           10.png

          圖4.MOSFET小信號模型。

          在更高的頻率下,我們需要考慮MOSFET的寄生電容(圖5)。

          具有寄生電容的MOSFET。

           11.png

          圖5.具有寄生電容的MOSFET結構。

          以上代表的是:

          Cgs,柵源電容。

          Cgd,柵極到漏極電容。

          Cgb,柵極到本體電容。

          CSB,源極到體電容。

          Cdb,漏極到體電容。

          圖6中的小信號晶體管模型包括除主體電容之外的所有這些非理想因素。

          帶電容的MOSFET小信號模型。

           12.png

          圖6.帶電容的MOSFET小信號模型。

          從圖6中我們可以看到,圖3中的MOSFET的固有增益具有單極低通傳遞函數。我們現在可以計算晶體管的帶寬,在這種情況下,帶寬將是電壓增益等于1(0 dB)的頻率。這被稱為單位增益頻率(fT)。

          為了找到fT,我們將輸出端短接到地,并計算圖6的跨導。這樣做可以得出以下方程式:

           13.png

          方程式7

          從方程式4和7中,我們看到,為了增加增益,我們需要增加晶體管的長度。然而,我們也看到,這會導致帶寬降低。反之亦然:減少晶體管的長度會導致帶寬增加。

          展望未來

          我們現在知道MOSFET在小信號交流輸入下的行為,如何模擬這種行為,以及它與之前文章中描述的大信號行為的關系。有了這些工具,我們就可以用MOSFET構建和分析模擬電路了!




          關鍵詞: MOSFET 模擬IC

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