日本正掀起半導體工廠建設熱潮

過去三十年被視為日本半導體「失去的三十年」，這個國家當下東山再起的意圖呼之欲出。

半導體用于從電子設備到人工智能系統的各種產品，在國家經濟安全中發揮著關鍵作用。

為了確保穩定的半導體供應，政府在 2021 財年至 2023 財年期間總共撥出 4 萬億日元作為補貼，幫助企業在國內建設半導體工廠。

得益于巨額補貼，該行業在經歷了數十年的低迷之后，即將迎來明顯的好轉。

去年，總部位于東京的芯片制造商 Rapidus 宣布將在北海道北部城市千歲建立一家工廠，該公司旨在在日本制造下一代半導體。

該芯片工廠于去年 9 月開始建設，目前正在緊鑼密鼓地建設中，以期實現該公司 2025 年 4 月原型生產線投產、2027 年開始量產的目標。

Rapidus 的目標是批量生產電路線寬為 2 納米的最先進芯片，這對于在芯片開發方面落后于其他國家的日本來說是一個崇高的目標。為了獲取專有技術，該公司已派出約 100 人到 IBM 的研究基地。

為了促進該行業的復興，政府決定向 Rapidus 提供 3300 億日元的補貼。它還計劃提供額外的財政支持。Rapidus 董事長 Tetsuro Higashi 表示：「我毫不懷疑我們會成功?！?/p>

「我們絕對不能在（Rapidus）項目中失敗，」工業部長 Ken Saito 在上周于日本議會下院眾議院預算委員會舉行的小組委員會會議上表示。

全球最大的芯片代工廠臺積電將于今年在熊本縣菊代鎮建造的工廠開始運營，這是該公司在日本的第一家工廠。臺積電將在該縣建造另一座工廠。

這些工廠的投資額約為 3 萬億日元，其中 12,080 億日元將由工業部門提供援助。日本芯片制造商鎧俠和美國西部數據公司將投資超過 7200 億日元，在巖手縣北上市和三重縣四日市的兩家合資工廠生產半導體存儲器。

美國芯片制造商美光科技決定擴建其位于廣島縣東廣島市的工廠。日本金融集團 SBI Holdings 和中國臺灣力晶半導體計劃在宮城縣大平村建設工廠。

盡管半導體行業本身正忙著建設工廠，但工程師的短缺卻出現了。大型半導體工廠還需要基礎設施相關的工作，包括道路和工業用水。齋藤表示：「在重振半導體行業和建立國內生產基礎設施之前，我們還有很長的路要走?！惯@表明需要長期援助。

經濟產業省的統計顯示，1998 年半導體制造商的從業人員數量超過 19 萬，由于產業衰弱，2020 年這一數字下降 70% 至 8 萬人。日本政府主導的產學官組織「九州半導體人才開發聯盟」預測，未來 10 年在半導體領域，九州地區每年大約會有 1000 人的人才缺口。

在少子老齡化加劇的日本，勞動人口的數量和占比持續下降，高科技人才更加稀缺。日媒指出，由于半導體行業爆發式增長，全球范圍內人才需求量在歐美，以高薪吸引高技能人力資源的趨勢明顯，而日本公司面臨的難題是，日元大幅貶值的情況下，高薪聘用人才的成本大幅提高，或將在人才爭奪中落后。

需要外部支撐

光刻機原本是日企擅長的領域，上世紀 80 年代，在光刻機領域形成了壟斷地位，尤其是尼康曾一度獨占行業 50% 以上的份額，隨后佳能也入局光刻機。

根據美國 IT 市場研究和咨詢公司 Gartner 的報告，90 年代中期，尼康和佳能占據全球 70% 至 75% 的市場份額。誕生于 1984 年的荷蘭公司 ASML 后來居上，從世界各地的供應商精心采購部件組裝光刻機。美國消費者新聞與商業頻道（CNBC）指出，受益于三星、臺積電、英特爾的投資和外部技術合作，還與數百家供應商建立了獨家采購關系，ASML 得以在 EUV 光刻機領域高歌猛進。

相比之下，像尼康這樣的日企更傾向于研發和器部件的自給自足，開發成本高、速度相對較慢，這被視為日企涉足 EUV 光刻機失敗的主要原因之一，實際上也與日本政府的戰略有關。日本前經產相萩生田光一在眾議院會議上表示，日本半導體產業在上世紀 80 年代擁有全球最高銷售額，但競爭力在接下來 30 年里持續下滑，是因為當時政府無法洞察全球產業趨勢，沒有實施適當的政策。

EUV 光刻機的需求亟待解決，岸田政府的目光望向海外。2022 年末，Rapidus 與比利時微電子研究中心（IMEC）簽署了技術合作備忘錄，2023 年 3 月兩家公司同意合作開發尖端光刻機技術，包括 EUV 光刻機。IMEC 作為半導體制造獨立研究機構，與 ASML 密切合作約 30 年，共同升級 EUV 光刻機和開發下一代 High-NA（高數值孔徑）EUV 光刻機。對日本來說，寄希望于 IMEC 為其注入核心技術力量。

日本政府在上世紀 80 年代主導半導體產業發展，是自力更生的發展模式，基本上沒有外部技術援助，但是日本現在意識到僅靠自己的能力是不夠的，因此強調外部技術支撐。