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          日本將對(duì)半導(dǎo)體量子相關(guān)4品類等實(shí)施出口管制

          作者: 時(shí)間:2024-04-29 來(lái)源:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫 收藏

          據(jù)日本媒體報(bào)道,日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省 26 日宣布,將半導(dǎo)體和量子相關(guān)的 4 個(gè)技術(shù)品類納入出口管制對(duì)象。這些技術(shù)在面向所有國(guó)家和地區(qū)出口時(shí)均須事前獲得官方許可。報(bào)道認(rèn)為,在日本這樣擁有相應(yīng)技術(shù)的國(guó)家先行實(shí)施出口限制,旨在防止新興技術(shù)被用于軍事領(lǐng)域。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202404/458218.htm

          日本經(jīng)產(chǎn)省目前已就此對(duì)《外匯及外國(guó)貿(mào)易法》相關(guān)法規(guī)(省令)做出修改,在公開(kāi)征求意見(jiàn)階段結(jié)束后,相關(guān)法規(guī)將正式公布并最早將于 7 月生效。日媒稱,用于獲取集成電路圖像的電子顯微鏡、全環(huán)繞柵極技術(shù)等將成為新的出口管制對(duì)象。這些品類的產(chǎn)品尚未納入被稱為「瓦森納協(xié)定」的多邊出口管制協(xié)定,日本政府此舉也將相應(yīng)提高出口管制的實(shí)效性。

          報(bào)道表示,擁有技術(shù)的國(guó)家先行實(shí)施限制,以防止新興技術(shù)被轉(zhuǎn)用于軍事。這一省令將從 4 月 26 日到 5 月 25 日征集公眾意見(jiàn),意見(jiàn)征集結(jié)束后公布,并在 2 個(gè)月內(nèi)實(shí)施。新的出口管制對(duì)象還包括用來(lái)獲取集成電路圖像的電子顯微鏡等,在部分國(guó)家,這些品類早已被列為出口管制對(duì)象。

          目前,國(guó)際社會(huì)原則上在《瓦森納協(xié)定》(WA)的框架下討論限制品類,各國(guó)再根據(jù)《瓦森納協(xié)定》下達(dá)成的共識(shí)制定本國(guó)的限制清單。然而在《瓦森納協(xié)定》中增加新的品類需要所有成員國(guó)同意,所以很難第一時(shí)間跟上技術(shù)的進(jìn)步,日本此次新增的限制品類也將按計(jì)劃添加到《瓦森納協(xié)定》中。

          本次擴(kuò)大技術(shù)出口管制范圍,將使日本企業(yè)向海外出口尖端技術(shù)的限制進(jìn)一步加強(qiáng)。據(jù)日媒報(bào)道,日本經(jīng)產(chǎn)省 24 日公布關(guān)于修改出口管制方針的中期報(bào)告。報(bào)告提出,針對(duì)可能被用于軍事領(lǐng)域的尖端材料和設(shè)備,在企業(yè)向海外進(jìn)行技術(shù)轉(zhuǎn)讓時(shí),將強(qiáng)化企業(yè)方面的事前報(bào)告義務(wù)。

          報(bào)告提出的新方案主要針對(duì)「軍民兩用技術(shù)」加強(qiáng)監(jiān)管。對(duì)于日本在國(guó)際市場(chǎng)上所占份額較高、其他國(guó)家有興趣獲取的技術(shù)轉(zhuǎn)讓,如果以在其他國(guó)家和地區(qū)生產(chǎn)產(chǎn)品的形式進(jìn)行技術(shù)轉(zhuǎn)讓,方案要求企業(yè)事先向經(jīng)產(chǎn)省報(bào)告。此外,出口企業(yè)還必須確認(rèn)出口目的地國(guó)家不將出口產(chǎn)品用于制造武器。對(duì)于軍事風(fēng)險(xiǎn)較高的品種,除了面向朝鮮等現(xiàn)有「武器禁運(yùn)國(guó)」外,限制范圍將擴(kuò)展到面向俄羅斯、中國(guó)等「一般國(guó)家」交易行為。如果日本政府認(rèn)為有安全顧慮,經(jīng)產(chǎn)大臣可要求企業(yè)申請(qǐng)出口許可,最終由政府決定是否出口。

          實(shí)際上,近年來(lái)日本追隨美國(guó)不斷對(duì)華開(kāi)展和加大出口管制。去年年初,美日荷便就尖端芯片技術(shù)和對(duì)華限制達(dá)成協(xié)議。去年 5 月 23 日,日本經(jīng)產(chǎn)省公布《外匯法》修正案,將先進(jìn)芯片制造所需的 23 個(gè)品類的半導(dǎo)體材料和設(shè)備列入出口管制對(duì)象,其中包括了多種關(guān)鍵性材料,例如氟化氫、蝕刻液、聚酰亞胺和高純度氮等。

          具體而言,涉及光刻/曝光領(lǐng)域的有 4 項(xiàng),即先進(jìn)制程的光刻機(jī)/涂膠顯影機(jī)/掩膜及制造設(shè)備;涉及刻蝕領(lǐng)域的有 3 項(xiàng),分別是濕法/干法/各向異性的高端刻蝕;涉及清洗領(lǐng)域的有 3 項(xiàng):即銅氧化膜、干燥法去除表面氧化物、晶圓表面改性后單片清洗。涉及最多的是薄膜領(lǐng)域,達(dá) 11 項(xiàng)。此外,涉及熱處理和測(cè)試領(lǐng)域的各 1 項(xiàng)。

          日本政府規(guī)定,新增的 23 個(gè)品類產(chǎn)品除了面向友好國(guó)家等 42 個(gè)國(guó)家和地區(qū)之外,向其他地區(qū)的出口都需要獲得個(gè)別許可。據(jù)了解,這意味著今后日本企業(yè)在涉及該領(lǐng)域產(chǎn)品對(duì)華出口時(shí),必須獲得經(jīng)日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)大臣審批的單獨(dú)許可證后方可對(duì)華實(shí)施出口;而單獨(dú)許可證所需申請(qǐng)文件類型及手續(xù)將極為繁雜,其中包括需要追加提交證明用戶業(yè)務(wù)資質(zhì)、出口產(chǎn)品用途、用戶承諾文件等諸多附件資料。

          管制于去年 7 月 23 正式生效。對(duì)此,中國(guó)商務(wù)部發(fā)言人曾表示,希望日方遵守國(guó)際經(jīng)貿(mào)規(guī)則,避免對(duì)兩國(guó)經(jīng)貿(mào)合作進(jìn)行政治干擾、限制企業(yè)正常自主經(jīng)營(yíng)和企業(yè)間公平競(jìng)爭(zhēng)。



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