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          ASML 推出 High-NA EUV 光刻機 TWINSCAN EXE:5000 樂高模型

          作者:EEPW 時間:2024-12-06 來源:EEPW 收藏

          全球領(lǐng)先的光刻設(shè)備制造商 ASML 近日在其官方網(wǎng)站紀念品商城推出了一款特別的樂高模型套裝,精確復刻了其最先進的 High-NA EUV 光刻系統(tǒng) TWINSCAN EXE:5000。該模型由 851 個樂高積木組成,售價 227.95 美元(約合人民幣 1653 元)。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202412/465267.htm

          ASML Shows Off Next-Generation, $380 Million High-NA EUV Lithography ...

          模型設(shè)計與規(guī)格

          這款樂高模型由 ASML 員工兼樂高愛好者 Rick Lenssen 設(shè)計,尺寸為寬 352 毫米、高 99 毫米、深 64 毫米,精確再現(xiàn)了 TWINSCAN EXE:5000 的外觀細節(jié)。該模型不僅展示了 ASML 在光刻技術(shù)領(lǐng)域的卓越成就,也為樂高和科技愛好者提供了獨特的收藏品。

          TWINSCAN EXE:5000 的技術(shù)亮點

          TWINSCAN EXE:5000 是全球首款采用 0.55 數(shù)值孔徑(NA)的極紫外光(EUV)光刻機,分辨率達到 8 納米,成像對比度比之前的 NXE 系列 0.33NA EUV 系統(tǒng)高出 40%,支持 2 納米邏輯節(jié)點的圖案化。該設(shè)備的單價高達 3.5 億歐元(約合人民幣 26.8 億元),代表了當前光刻技術(shù)的最高水平。

          設(shè)計者的背景

          Rick Lenssen 此前曾花費兩年半的時間(其中一年半用于設(shè)計藍圖,一年用于實際組裝),用樂高積木復刻了 ASML 位于費爾德霍芬的主園區(qū),并推出過多款 ASML 主題的樂高套裝產(chǎn)品。此次推出的 TWINSCAN EXE:5000 樂高模型是他在將藝術(shù)與技術(shù)相結(jié)合方面的最新力作。

          購買信息

          這款 TWINSCAN EXE:5000 樂高模型套裝目前已在 ASML 官方紀念品商城上架,售價為 227.95 美元。由于其獨特性和限量供應(yīng),預計將受到樂高愛好者和科技收藏家的熱烈追捧。

          ASML 此次推出的樂高模型,不僅展示了其在光刻技術(shù)領(lǐng)域的領(lǐng)先地位,也體現(xiàn)了公司在推廣科技文化方面的創(chuàng)新嘗試。這一舉措有望進一步提升公眾對半導體制造技術(shù)的興趣和了解。



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