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          ITO表面處理方法

          作者: 時(shí)間:2012-03-13 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏
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          功函數(shù)(eV)

          表面粗糙度(nm)

          未處理

          16.1

          4.5

          2.6

          機(jī)械拋光

          16.3

          4.2

          2.3

          Ar等離子體

          16.7/17.3/17.0

          4.5

          10.9/15.4/23.0

          氧等離子體

          16.4/15.0/16.4

          4.35/4.75/4.65

          1.4/1.4/2.1

          王水

          18.5/23.5/28.6

          4.6/4.3/4.7

          3.8/8.4/8.8

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