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          電子俘獲光存儲技術(shù)

          作者: 時間:2006-05-07 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

          隨著計算機和信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,越來越多的信息內(nèi)容以數(shù)字化的形式豐在、傳輸和保存。因此對大容量信息存儲技術(shù)的研究就逐漸升溫。激光技術(shù)的不斷成熟,尤其是半導(dǎo)體激光器的成熟應(yīng)用,使得光存儲從最初的微縮照相發(fā)燕尾服成為快捷、方便、容量巨大的存儲技術(shù),各種光ROM紛紛亮像,到最近的DVD-ROM發(fā)布之時,雙面5.25英寸大小已經(jīng)可以存儲10G比特的數(shù)據(jù)。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/225711.htm

          與磁介質(zhì)存儲相比光存儲技術(shù)壽命長,非接觸式讀/寫,信息的載噪比(GNR0)高,信息位的價格低,但是不足也是明顯的:光盤機價格較貴,傳輸速率低,重復(fù)擦寫技術(shù)尚不成熟。主要的問題集中在了重復(fù)擦寫技術(shù)上,研究人員針對這個問題展開研究,先后提出了光致變色存儲,光譜燒孔材料光存儲,電子俘獲材料光存儲等新型存儲方法,其中電子俘獲光存儲材料的研究比較突出,在某此方面幾乎達到了實用化。

          電子俘獲光存儲技術(shù)除了高密度存儲的優(yōu)點外,還具有響應(yīng)快,擦寫次數(shù)多,制備方便,造價低,應(yīng)用方便靈活等優(yōu)點。本文綜合介紹了近年來在電子俘獲材料領(lǐng)域內(nèi)的一些研究和應(yīng)用進展。

          技術(shù)原理

          電子俘獲是一種光激勵發(fā)光現(xiàn)象。光激勵發(fā)光是指材料受到輻照時,產(chǎn)生的自由電子和空穴被俘獲在晶體內(nèi)部的陷阱中,從而將輻照能量存儲起來,當受到光激勵時(波長比輻照光長),這些電子和空穴脫離陷阱而復(fù)合發(fā)光。因而這種材料被形象地稱為“電子俘獲材料”。電子俘獲光存儲寫入與讀出的簡單原理,如圖1所示。

          當用寫入光輻照時,材料中產(chǎn)生大量的電子和空穴,這些電子和空穴被俘獲在晶體內(nèi)部的陷阱中,從而將輻射能量存儲起來。當受到光激勵時(即讀出光,能量小于寫入光),陷阱中的載流子(電子和空穴)脫離陷阱而與發(fā)光中心復(fù)合發(fā)光。圖1中,過程1表示晶體受電離輻射產(chǎn)生躍過禁帶的自由電子和空穴,過程2、4表示自由電子被俘獲并暫時存儲在陷阱中,過程3、5存儲在陷阱中的電子和空穴在受可見光或紅外光激勵時躍遷出陷阱,又處于自由狀態(tài),過程6、7、8表示這些自由電子和空穴可以在材料中的某些發(fā)光中心離子的局域能級上發(fā)生復(fù)合,而把它們所帶的能量以一定波長的能量(h v)釋放出來從而完成的整個讀出及寫入過程。電子俘獲光存儲的寫入(激發(fā)),讀出(激勵)的波長范圍,受基質(zhì)的晶格影響,也受雜質(zhì)原子,晶格缺陷,以及一些破壞晶格周期性的界面等的影響。破壞了晶格的周期性,就可能在禁帶中形成一些定域能級,定域能級的不同,直接影響了激發(fā)、激勵以及激勵發(fā)光的不同。電子俘獲材料正是選擇了不同基質(zhì)以及摻雜,得到了不同波段的存取。電子俘獲材料的讀寫波長由材料中的發(fā)光中心決定的。

          主要類型

          1 MFX類型X光影像存儲

          這是一種典型的X光影像存儲材料,用做光存儲時,典型的BaFC1:Eu2+材料寫入使用X射線,讀出光波長范圍是400~700nm,讀出發(fā)光波長范圍是380~400nm。

          目前這種材料是最接近于實用的,采用高溫(1000℃)固相反應(yīng)法能制備出純度較高的樣品。日本和美國的一些公司已經(jīng)推出使用MFX型電子俘獲材料做成像、存儲器件的醫(yī)用X光透視儀等產(chǎn)品。使用MFX型材料的存儲優(yōu)點是靈敏、可反復(fù)使用、易于集成數(shù)字系統(tǒng)。缺點是讀出信號的持續(xù)讀出衰減快,重復(fù)讀的次數(shù)有限。重復(fù)需要使用較高溫度熱漂白加光漂白,在配套技術(shù)方面仍需要突破。

          2 堿土金屬硫化物紅外讀出存儲

          1986年Iindmayer首先提出利用IIa~Vib化合物中某些雜質(zhì)離子的電子在光的作用下被陷阱俘獲和釋放的現(xiàn)象,發(fā)展了一種新的可擦除光存儲系統(tǒng)。并提出了電子俘材料這個概念。典型的材料有SrS:Eu,Sm,Cas:EU,Ce[26]等雙稀土摻雜,也有報道單稀土離子摻雜的,如CaS:Ce等。這類材料的寫入波長在綠光波段,讀出光在近紅外波段,讀出發(fā)光在紅光波段。因此具有很廣闊的利用空間。

          堿土金屬硫化物的主要讀出波段的近紅外,因此除了可以用做存儲外,也是一種很好的實現(xiàn)紅外光激勵材料。而且電子俘獲材料探測靈敏度高(μW量級),響應(yīng)快(可達幾十ns)。而更多的應(yīng)用是利用它可擦除,響應(yīng)快,做非線性光學(xué)元件,或者做布爾運算元件用于神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)和光計算機中。這類材料缺點是熱穩(wěn)定性不好。信號衰減得快。盡管有報道使用這種材料與CCD耦合的紅外探測儀的研究工作,但是因為各種技術(shù)細節(jié)問題也只停留在實驗室階段。

          3 堿金屬鹵化物紫外光存儲

          最近堿金屬鹵化物也開始作為光存儲的電子俘獲材料研究起來。典型的有KC1:Eu 2+,KBr:Eu 2+等。輻照(寫入)波段是紫外,激勵(讀出)綠光波段,讀出發(fā)光在藍光波段。一般認為這類材料中電子陷阱是陰離子空位,發(fā)光中心是Eu離子。主要應(yīng)用于X光影像存儲或者紫外影像存儲,這種材料的持續(xù)讀出信號隨時間的衰減不大,因此可以用做經(jīng)常讀出的存儲。

          發(fā)展應(yīng)用

          1 制備技術(shù)的改進

          電子俘獲材料多數(shù)是粉末狀的,一般采用高溫固相反應(yīng)法制備。制備費時費力,對環(huán)境的污染大。因此改進制備技術(shù),也是實用化的先決條件。目前有有采用二次固相反應(yīng)法制備材料,減少反就時間,降低反應(yīng)溫度,提高了產(chǎn)品的純度。有采用隔絕空氣法制備材料的,減少了制備的工序,提高反應(yīng)的進行的程度。目前高溫固相反應(yīng)法是制備電子俘獲材料主要方法。為了克服高溫固相反應(yīng)的缺點,可以針對不同類型的材料嘗試低溫化學(xué)合成、生長晶體等方法來制備,這還需要通過與現(xiàn)在制備方法的比較來摸索。

          2 實用化改進

          目前對于這種材料的實用地面觀察站處于開發(fā)階段。材料的封裝,制成器件的方法工藝,與之配套的生產(chǎn)、測試設(shè)備研制等具體技術(shù)問題還有待解決。目前僅有美國和日本幾家公司有少量實驗室樣品,并沒有得到推廣。可見這其中還有技術(shù)問題沒有解決。這不僅需要各個廠家和研究機構(gòu)在技術(shù)上的投入,必要的時候還需要聯(lián)合起來形成一個行業(yè)的協(xié)議,同時與信息產(chǎn)業(yè)的相關(guān)協(xié)議規(guī)范結(jié)合,更有利于實用化推廣。

          3 新材料的開發(fā)

          其一,目前做存儲研究的電子俘獲材料只有有限的幾種,使用中與現(xiàn)有的光源,主要是半導(dǎo)體激光器配合使用不十分有效,浪費了能源也制約了推廣使用;其二,目前研究得比較成熟的幾種材料都存在性質(zhì)不太穩(wěn)定的問題,主要的是潮解,而且受熱后存儲的內(nèi)容不穩(wěn)定,易丟失。這需要考慮比較簡單適用的封裝;其三,目前使用的材料多數(shù)對環(huán)境有害,如硫化物,在生產(chǎn)中也極易造成污染;其四,從長遠角度考慮,比如利用電子俘獲結(jié)合其他技術(shù)發(fā)展三維存儲,以及其他形式的存儲等??傊m然有些類型的電子俘獲材料的研究還剛剛開始,但是新材料的開發(fā)仍需進行。一方面需要在材料制備摸索,另一方面對現(xiàn)有材料的存儲機制和細節(jié)問題的清楚認識和歸納總結(jié)將對新材料的開發(fā)起到指導(dǎo)性的作用。

          電子俘獲材料在光存儲方面有無可比擬的優(yōu)勢,雖然人們在材料的機理、制備、器件以及新材料等方面做了很多有益的探討,但要達到全面作用仍需要做一些工作。機理方面還需要對整個過程進行詳細的認識,這樣才能有的放矢地改進材料的某方面的特性,如提高效率、增加穩(wěn)定性等,進而可以指導(dǎo)新材料的開發(fā)。實用化需要盡可能的利用現(xiàn)有的光源條件,以降低實用化的成本,這一方面需要對現(xiàn)有材料的改進,另一方面是開發(fā)出合適的新材料,使得在各個波段都能有適用的存儲材料。只有在這些方面加強研究,電子俘獲光存儲材料才能真正的實用化。

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