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          導入Cascode結(jié)構(gòu) GaN FET打造高效率開關(guān)

          作者: 時間:2014-02-09 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏
          將來這一數(shù)值還會繼續(xù)改進。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/226585.htm

            Qoss和Qrr有時容易被混淆。雖然這些參數(shù)是在不同條件下分別測量的,但是存在著一定的重疊,從而掩蓋了 這類技術(shù)的真正優(yōu)勢。反向恢復電荷Qrr是利用專用半橋電路(亦即雙脈沖測試儀)進行測量的:在上臂FET內(nèi)建立其體二極體正向電流,然后打開下臂FET,從而迫使上臂體二極體內(nèi)發(fā)生反向恢復事件。隨著時間的流逝,測量電流,然后合并總反向傳導區(qū)域,得到電荷測量值Qrr。但是設(shè)想有一個帶有一定電容的理想二極體,然后按下面這種方法進行評估:電容放電所需的電流是負電流,對其進行合并并稱之為Qrr,但是它不是真正的反向恢復電荷(理想二極體沒有反向恢復電荷),它只是電容電荷。重點在于傳統(tǒng)Qrr測量將真正的Qrr和Qoss混為一談并稱之為Qrr。這一點很重要,因為不同的拓撲對真正的Qrr較敏感,而對Qoss則不那么敏感。例如,軟開關(guān)拓撲可能會將Qoss整合到整個諧振電路中去,讓它變得基本上無損耗。但是與真正的Qrr相關(guān)的二極體復合時間造成的延遲和反向電流會產(chǎn)生功率損耗。結(jié)論就是,單看資料手冊中的參數(shù)或簡單的指標無法知悉全部情況。每款元件都須要仔細評估,進而了解其應用電路的真正損耗。

            閘電荷是另一個 優(yōu)于替代矽FET的參數(shù)。再一次通過比較相同條件下的Rds(on)×Qg規(guī)范化為Rds(on), 的閘電荷低了八倍。由于每個開關(guān)周期閘電荷在充電和放電期間都會被閘極驅(qū)動電路全部耗盡,所以Qg降低會直接降低閘極驅(qū)動電路的損耗,進而提升總效率,特別是在高頻下。

            GaN FET優(yōu)勢多商用可期

            電力電子常用的拓撲隨著半導體的發(fā)展而不斷變化。GaN實現(xiàn)了那些需要低Rds(on)和出色的體二極體行為的拓撲,從而將應用領(lǐng)域擴展到傳統(tǒng)FET無法充分發(fā)揮作用的領(lǐng)域,例如無橋升壓PFC和相移全橋轉(zhuǎn)換器之類的高頻、高效拓撲,甚至電機驅(qū)動應用也能受益,盡管它們的開關(guān)頻率通常較低。GaN Cascode FET的傳導損耗低于IGBT,特別是在輕負載下,適于壓縮機和大多數(shù)時間在10?20%負載下運行的其他應用。GaN還可以在同步整流器模式下運行,從而降低二極體傳導損耗(與IGBT相比)。此外,相比于任何矽FET,即使是快速恢復外延二極體場效應電晶體(FREDFET),GaN Cascode的反向恢復特性也較出色,從而縮短硬開關(guān)條件下的轉(zhuǎn)換時間,無須增加傳導電磁干擾(EMI)即可降低開關(guān)損耗。

            歸根究底,體二極體行為限制所有600V開關(guān)選項的性能,因為通常須在開關(guān)速度以及反向恢復的di/dt與dv/dt特性造成的EMI之間進行折中;換言之,必須降低矽FET的速度(這將提高開關(guān)損耗)方能消除傳導EMI。第一代GaN FET現(xiàn)已實現(xiàn)商業(yè)化,與當今最好的矽FET相比其有了明顯改善。

          電荷放大器相關(guān)文章:電荷放大器原理

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          關(guān)鍵詞: Cascode GaN 場效應管

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