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          用IGBT代替MOSFET的可行性分析

          作者: 時間:2013-05-18 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

          一、 引言
            電力電子設(shè)備正朝著高頻、高效、高可靠、高功率因數(shù)和低成本的方向發(fā)展,功率器件則要求高速、高可靠、低損耗和低成本。目前所用功率器件主要是功率.是為降低功率的導通電阻RDS(ON) ,將雙極晶體管的集電區(qū)電導調(diào)制效應引入的漏極,實現(xiàn)了漏極高阻漂移區(qū)的電導調(diào)制效應,從而降低了的導通壓降VCE(ON) .從制造工藝上講,MOSFET和IGBT的不同只是原始Si材料的不同,MOSFET采用N-N+同型外延Si片,IGBT采用N-P+異型外延Si片,在同型外延Si片上用MOSFET工藝生產(chǎn)出的器件為MOSFET,在異型外延Si片上用MOSFET工藝生產(chǎn)出的器件為IGBT.N-P+結(jié)的引入使得IGBT為一個四層(N+P N-P+)結(jié)構(gòu)。所謂電導調(diào)制是指處于正偏的N-P+結(jié),由P+向N-區(qū)注入少子空穴,實現(xiàn)了N-區(qū)的電導調(diào)制,使N-區(qū)的電阻率降低。因為少子注入,在關(guān)斷期間就存在少子復合,所以IGBT的開關(guān)速度要慢于MOSFET.那么在多高的開關(guān)頻率下,IGBT可以替代MOSFET?要做具體分析。

          二、 為什么要取代MOSFET ?

            降低MOSFET的RDS(ON)是高壓功率MOSFET發(fā)展中很難解決的問題, 降低RDS(ON)的主要辦法是增加芯片面積。面積增加,速度下降,生產(chǎn)合格率降低,而成本大幅度提高。在相同電壓和電流下,IGBT芯片面積不足MOSFET芯片面積的1/2,而且開關(guān)速度近似,同時成本降低一半。所以用IGBT代替MOSFET可在性能不變的情況下,大幅度降低成本,而且對于幾千安培、數(shù)千伏特的應用,MOSFET是不能實現(xiàn)的。

          三、 用IGBT代替MOSFET的可行性
            1. IGBT和MOSFET電性能的不同相同功率容量的IGBT和MOSFET的主要區(qū)別是IGBT速度可能慢于MOSFET,再者就是IGBT存在關(guān)斷拖尾時間ttail .ttail 長,死區(qū)時間也要加長,從而影響了使用開關(guān)頻率。表1是APT公司生產(chǎn)的IGBT和MOSFET可互換器件的主要電參數(shù)。

          表1
          用IGBT代替MOSFET的可行性分析
          由表1可見APT30GP60B和APT5010B2LL相比, toff較長,而硅片面積ASi和歸一成本,APT5010B2LL均是APT30GP60B的兩倍。

            2.IGBT 和MOSFET 可使用開關(guān)頻率fSM和結(jié)溫Tj在大功率器件的使用中,所有參數(shù)都受器件結(jié)溫Tj的限制,手冊中給出Tjm=150℃,而使用中要控制Tjm≤125℃,有試驗表明Tj每增高2℃,可靠性下降10%。所以一種器件可否代替另一種器件的首要考慮是在相同應用條件下, Tj是否超過125℃,其次要考慮在相同的應用條件下,可使用的開關(guān)頻率可否近似。器件應用中的總功耗Pt:Pt=(Tj-Tc)/ Rthjc= PC+PS+PD+PR PC=D.IC.VCE(ON) (D.ID2.RDS(ON))為導通損耗,D為占空比, VCE(ON) 為導通壓降, RDS(ON)為導通電阻, IC為應用電流。

          PS= fS(Eon +Eoff)為開關(guān)損耗, fS為使用開關(guān)頻率, Eon 和Eoff為一個周期內(nèi)的開通和關(guān)斷能量損耗。

          PD=△VG.QG.fS 為驅(qū)動損耗, △VG為通導到關(guān)斷柵電壓, QG為柵電荷。

          PR=(1-D)。VR.IR為關(guān)斷損耗, VR和IR分別為反向電壓和電流。

          PD 、PR 和PC 、PS相比一般是很小的,因此可忽略不計。

          ∴ (Tj-Tc)/ Rthjc= D.IC.VCE(ON) (D.ID2.RDS(ON) )+fS(Eon +Eoff)

            而 Tj= Rthjc×[ D.IC.VCE(ON) +fS(Eon +Eoff)]+ Tc 對于IGBT 1> Tj= Rthjc×[D.ID2.RDS(ON) +fS(Eon +Eoff)]+ Tc 對于MOSFET 2> fS =[(Tj-Tc)/ Rthjc-D.IC.VCE(ON)]/ (Eon +Eoff) 對于IGBT 3> fS =[(Tj-Tc)/ Rthjc-D.ID2.RDS(ON)]/ (Eon +Eoff) 對于MOSFET 4>對于1>-4>式,除Eon 和Eoff之外的參數(shù)均是應用條件和手冊中可查到的。對于IGBT,Eon和Eoff在手冊中可查到測試條件下的測試值,MOSFET手冊中并不給出。所以Eon 和Eoff要根據(jù)應用條件和Eon 、Eoff的測試方法來計算。

            Eon =∫τon0V(t)。I(t)dt 5> Eoff=∫τoff0V(t)。I(t)dt 6>對于電感負載 5> 和6>近似為:Eon =1/2V.I.τon 7> Eoff=1/2V.I.τoff 8> 7>、8>式中的τon ,對橋式電路和單端電路是不同的。對橋式電路 τon=ton +trr ,trr為反并聯(lián)二極管的反向恢復時間。對單端電路 τon=ton .對于τoff,不管橋式或單端電路τoff=toff. 3.在相同拓撲電路和應用條件下fSM和結(jié)溫Tj的計算應用條件:橋式硬開關(guān)電路,Tj≤125℃,Tc≤80℃,V=300V,I=30A,D=0.5,fS=100KHZ .將上述條件代入7>和8>式以及1>-4>式,結(jié)果如表2所示表2

          用IGBT代替MOSFET的可行性分析
          四、 分析和討論

            IGBT能否代替MOSFET,首先要考慮在相同的使用條件下,可使用的開關(guān)頻率fSM是否滿足要求,再考慮Tj是否小于125℃。

            在上述應用條件下,APT30GP60B和APT5010B2LL可使用頻率均大于100 KHZ ,而Tj均低于125℃。若在fS≤120KHZ下使用,兩者均能滿足Tj125℃要求,所以在上述條件下APT30GP60B可代替APT5010B2LL.



          關(guān)鍵詞: IGBT MOSFET

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