精密高壓穩(wěn)壓電源的研究與設計

介紹了用于新型電子束曝光機的30 kV精密高壓穩(wěn)壓電源。該電源系統(tǒng)采用了直接調整和間接調整相結合的雙閉環(huán)調整方案，采用了集中補償和分散補償相結合的系統(tǒng)補償方式，成功地解決了既有高靜態(tài)精度又有高動態(tài)穩(wěn)定性的問題。為了保證高精度、高穩(wěn)定性和低紋波電壓等技術指標的實現(xiàn)，采取了多項合理的特定電路設計。針對電源系統(tǒng)輸出直流高壓這一特點，對關鍵技術采取了針對性的切實有效的技術處理，從而滿足了高壓電源的高可靠性和長期高穩(wěn)定性的性能要求。各項技術指標均達到或超過原設計要求。