用直流或直、交流疊加電源的硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理技術(shù)要求
硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理采用直流電源或直流和交流疊加電源。其溶液種類也較多,以采用硫酸硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理較普遍。
本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/231349.htm采用硫酸硬質(zhì)陽(yáng)極氧化法時(shí),應(yīng)考慮影響氧化膜層的各因素。
(1)硫酸氧化處理的濃度:常采用200~250g/L,槽液的相對(duì)密度(室溫下)為1.12~1.15。
(2)水:水是硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理的主要成分,一般采用蒸餾水或冷開水,而不用自來(lái)水,因?yàn)樽詠?lái)水中含有氯離子,當(dāng)Cl一>1%時(shí),其制件在氧化過(guò)程中就會(huì)腐蝕,并出現(xiàn)白斑。
(3)氧化處理的溫度:溫度是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一。嚴(yán)格控制溫度,其氧化膜增厚,硬度提高且光滑、致密。
(4)電流密度:電流也是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一,它與氧化膜的生成速度、氧化膜的組織有較大關(guān)系。電流密度過(guò)低時(shí),氧化膜的生成速度緩慢,處理時(shí)間增加;反之,過(guò)高時(shí),會(huì)導(dǎo)致溶液和電極因焦耳效應(yīng)而過(guò)熱,使氧化膜溶解速度增加,硬度下降,表面粗糙、疏松起粉。
(5)初始電壓與處理時(shí)間:硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理的初始電壓與時(shí)間對(duì)氧化膜質(zhì)量的影響也是很大的。初始的電壓過(guò)大,會(huì)導(dǎo)致電流的增加,焦耳熱和生成熱劇增,促使溶解速度猛增,氧化膜則軟,無(wú)光澤,起粉,不耐磨。
對(duì)于氧化處理時(shí)間,一般是隨著氧化處理時(shí)間的延長(zhǎng),氧化膜厚度增加,但到一定時(shí)間后,若不增加外加電壓,氧化膜實(shí)際不增加。如果繼續(xù)延長(zhǎng)時(shí)間,則氧化膜硬度低,疏松起粉。相反,氧化處理時(shí)間太短,氧化膜厚度薄且不耐磨。
(6)氧化處理溶液的攪拌:攪拌速度大小與氧化膜生成速度(氧化膜質(zhì)量)有關(guān)。
評(píng)論