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          石墨烯存儲器問世 比閃存存儲單元密度更高

          作者: 時(shí)間:2009-01-13 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

          Rice大學(xué)研究人員正在著手研究一類存儲單元密度至少為閃存兩倍的片狀

          )是由沒有卷成納米管的純炭原子薄膜構(gòu)成,在此之前已被用于IBM的超快速晶體管原型產(chǎn)品及其它領(lǐng)域。此次,由Rice大學(xué)教授James Tour領(lǐng)頭的科研小組首次將石墨烯用于架構(gòu)更簡單的雙端件。

          與晶體管這類三端器件不同,“我們(所研發(fā))的石墨烯單元僅有兩個(gè)端子,”Tour表示,“通過在存儲單元兩端加不同電壓就可以完成對存儲單元的讀/寫或刪除?!?/P>

          在實(shí)驗(yàn)過程中,通過加3.5V的電壓來斷開石墨烯片之間的連接通道可清空存儲內(nèi)容。一個(gè)1V的信號允許電路將控制存儲單元,決定其處在‘導(dǎo)通’或‘閉合’狀態(tài)。

          目前尚不知這一操作的確切機(jī)理,但Tour的最佳猜測是由擦除電壓所導(dǎo)致的機(jī)械開路場會由寫信號修復(fù)。

          實(shí)驗(yàn)中所用存儲器件為厚度僅為5~10個(gè)原子的沉積薄膜,數(shù)據(jù)位單元僅為5納米。Tour表示,因?yàn)槭┢槐乇3诌B續(xù)的狀態(tài),因此位單元的尺寸將幾乎完全取決于能將其引線做到多細(xì)。由于石墨烯片存儲器僅有兩個(gè)端子,可將其置于尺寸極小的交叉開關(guān)之間。

          Tour 表示,“我們通過化學(xué)氣相沉積法得到石墨烯片,但是不一定非要形成完美的單層,甚至可以斷開的,因?yàn)閿嚅_的狀態(tài)似乎并不影響它工作。這是一種非常非常寬容的處理工藝?!?/P>

          其它非易失性存儲技術(shù)的閉合-斷開電流比只能達(dá)到100~1甚至10~1,而采用石墨烯片能將閉合-斷開電流比做到10,000 ~1000,000~1,這樣石墨烯片存儲器的位單元可緊湊地放置在一起并且能將導(dǎo)致存儲器發(fā)熱的漏電流做到非常小。在以后元器件中,低功率操作和雙端子結(jié)構(gòu)同時(shí)還被引入三維結(jié)構(gòu)。

          早期的超密集密度非易失性存儲器由NASA提供研發(fā)基金,但Tour所領(lǐng)導(dǎo)的研發(fā)小組現(xiàn)已獲得了某個(gè)未透露名字的半導(dǎo)體制造商為其提供的資金支持,用于今后進(jìn)一步研發(fā)。



          關(guān)鍵詞: Graphene 石墨烯 存儲器

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