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          應(yīng)用材料公司推出先進(jìn)的化學(xué)氣相沉積薄膜技術(shù)

          作者: 時(shí)間:2012-03-26 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

          2012年3月20日,上?!裉欤?a class="contentlabel" href="http://www.ex-cimer.com/news/listbylabel/label/應(yīng)用材料公司">應(yīng)用材料公司宣布推出全新等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)薄膜技術(shù),用于制造適用于下一代平板電腦和電視的更高性能高分辨率顯示。這些源自業(yè)界領(lǐng)先的AKT-PECVD系統(tǒng)的先進(jìn)絕緣薄膜,使得基于金屬氧化物的晶體管的應(yīng)用成為可能,制造出尺寸更小、開(kāi)關(guān)速度更快的像素,從而幫助客戶(hù)推出更受消費(fèi)者歡迎的高分辨率顯示屏。

          的全新PECVD設(shè)備沉積絕緣介電薄膜,為金屬氧化物晶體管提供了一個(gè)良好的層間界面,從而最大限度地減少了氫雜質(zhì),提高了晶體管的穩(wěn)定性,實(shí)現(xiàn)了顯示屏的優(yōu)化性能。這些高質(zhì)量的二氧化硅(SiO2)薄膜可通過(guò)AKT-PECVD系統(tǒng)高度均勻地沉積到尺寸達(dá)9平方米的玻璃基板上,此工藝性能對(duì)于面板制造客戶(hù)獲得高產(chǎn)品良率和低制造成本至關(guān)重要。

          “顯示屏制造企業(yè)正在積極投資金屬氧化物晶體管技術(shù),我們先進(jìn)的PECVD系統(tǒng)提供的薄膜技術(shù)可以解決這些復(fù)雜介質(zhì)薄膜的均勻性和穩(wěn)定性問(wèn)題,消除了這一重要新技術(shù)應(yīng)用的主要障礙?!睉?yīng)用材料公司集團(tuán)副總裁兼AKT顯示事業(yè)部總經(jīng)理Tom Edman表示,“通過(guò)在我們世界一流的AKT-PECVD系統(tǒng)上增添金屬氧化物介質(zhì)薄膜沉積功能,應(yīng)用材料公司為客戶(hù)提供了一個(gè)經(jīng)濟(jì)有效的途徑,幫助將這一新技術(shù)推向市場(chǎng)。在我們的系統(tǒng)上使用了這些新薄膜技術(shù)的客戶(hù),已經(jīng)取得了很好的成果。目前,各大顯示屏制造企業(yè)對(duì)新系統(tǒng)以及系統(tǒng)升級(jí)的需求非常強(qiáng)勁?!?/FONT>

          除了全新推出的PECVD薄膜之外,應(yīng)用材料公司目前還在開(kāi)發(fā)用于金屬氧化物制造的先進(jìn)物理氣相沉積(PVD)解決方案,包括銦鎵鋅氧化物(IGZO)沉積。應(yīng)用材料公司借助其最新的旋轉(zhuǎn)式陰極陣列技術(shù),實(shí)現(xiàn)高度均勻、各向同質(zhì)和低缺陷的半導(dǎo)體薄膜的沉積,相比現(xiàn)有的PVD解決方案,具有更高的生產(chǎn)效率和更低的原料消耗成本。



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