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          SIPLACE質(zhì)量保證 在2007年Nepcon上海大獲成功

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          作者: 時間:2007-05-15 來源:EEPW 收藏
          Nepcon上海2007于光大會展中心盛裝開幕。此次大會云集了來自全球 22 個國家表面貼裝行業(yè)的逾 650 家參展商,共吸引了 14800 名高層次參觀者。

          成功地展示了其全新的  D4、 D2+D1+D1s 生產(chǎn)線以及  D3 平臺。SIPLACE D 系列采用了創(chuàng)新設(shè)計,包括具備高端技術(shù)的光學(xué)成像系統(tǒng)、數(shù)字化處理、高精度貼片處理、以及最高水平的質(zhì)量表現(xiàn),旨在提供能夠滿足中國各行各業(yè)所需的解決方案。此外,還展示了 SIPLACE 創(chuàng)新特性,包括數(shù)字成像系統(tǒng)、軟件和服務(wù):整線效率(OLE)與翻新設(shè)備(POE)。

          因此,全新貼裝系統(tǒng)在本次展會上吸引了大量眼球。許多參觀者都被 D4、D3 和 D2-D1-D1s 系列產(chǎn)品的現(xiàn)場展示所折服。 

          全新 SIPLACE D 系列取得了巨大的成功,為此被 SMT 的國際合作伙伴 SMT China 授予了“遠(yuǎn)見獎(VISION Award)”,并被 EM Asia 授予了“創(chuàng)新獎(Innovation Award)”。全新 SIPLACE 平臺的諸多創(chuàng)新給評委們留下了尤其深刻的印象,例如數(shù)字成像系統(tǒng)、線性驅(qū)動、以及可為制造流程大量節(jié)省時間和成本的一流軟件。 


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