KLA-Tencor 推出基于 Linux 的新型產(chǎn)品 LithoWare

　　KLA-Tencor正式推出基于 Linux 的新型產(chǎn)品 LithoWare，該系統(tǒng)可幫助半導(dǎo)體電路設(shè)計(jì)人員大幅度降低 RET* 和 OPC* 工藝開(kāi)發(fā)的時(shí)間和成本。LithoWare是一款基于業(yè)內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)的PROLITH 模型的光刻優(yōu)化工具，它允許客戶同時(shí)優(yōu)化 RET 和工藝條件，并將校準(zhǔn)數(shù)據(jù)采集降至最少，從而有效縮短從設(shè)計(jì)到生產(chǎn)的時(shí)間。

　　“LithoWare 擁有無(wú)可比擬的預(yù)測(cè)精度以及在 Linux 計(jì)算機(jī)集群上運(yùn)行的特性，它為 RET 開(kāi)發(fā)人員提供了雙項(xiàng)優(yōu)勢(shì)?！?a class="contentlabel" href="http://www.ex-cimer.com/news/listbylabel/label/KLA-Tencor">KLA-Tencor Corporation 工藝分析事業(yè)部總經(jīng)理 Edward Charrier 表示?！癛ET 工程師可利用 LithoWare 獨(dú)有的靈活性和預(yù)測(cè)能力，在探索光刻工藝條件（如：光源照明、最新光刻膠、PEB 和其他等）的同時(shí)，優(yōu)化其 OPC。通過(guò) LithoWare，他們還可更快地創(chuàng)建 RET 菜單，并確保其在整個(gè)工藝窗口中都能正常工作，從而增強(qiáng)設(shè)計(jì)的穩(wěn)定性和可生產(chǎn)性。”

　　目前大多數(shù) EDA 產(chǎn)品運(yùn)行于 Linux/Unix 環(huán)境下，因此同樣基于 Linux 的 LithoWare 可全面兼容這些產(chǎn)品。用戶可通過(guò) LithoWare 裝載 GDSII 文件，選擇多個(gè)摸擬區(qū)域，互動(dòng)改變光照條件和 OPC 修正，并將 OPC 修正后的掩膜圖樣輸出為 GDSII 文件。 

　　最近的估計(jì)表明，32 納米開(kāi)發(fā)需數(shù)以億計(jì)的光刻摸擬計(jì)算。LithoWare 運(yùn)行在 Linux 環(huán)境下，可將大量模擬工作量分布到很多臺(tái)計(jì)算工作站上進(jìn)行，從而允許工程師執(zhí)行先進(jìn)的光刻計(jì)算，并探索擴(kuò)展的工藝參數(shù)，而這些在 PC或其他工具上都是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的，因?yàn)樗鼈儫o(wú)法承擔(dān)每次變化所帶來(lái)的大量重復(fù)校準(zhǔn)工作。LithoWare 基于 Linux 的架構(gòu)還可有效利用客戶現(xiàn)有的計(jì)算機(jī)投資，而無(wú)需配置額外的硬件。LithoWare 現(xiàn)已應(yīng)用于美國(guó)和日本的 IC 公司，幫助提升其 RET 開(kāi)發(fā)效率。

　　Charrier先生介紹說(shuō)：“用于全晶片 RET/OPC 的常規(guī)產(chǎn)品在不同光照情況下預(yù)測(cè)能力非常有限，而且不支持不斷的工藝變化，它們需要耗時(shí)、昂貴的工藝程序，包括掩膜加工、晶片印刷、測(cè)量和設(shè)備校準(zhǔn)等等，這往往需要幾天、幾周甚至幾個(gè)月的時(shí)間。LithoWare 提供獨(dú)有的‘假設(shè)分析’功能，可動(dòng)態(tài)地優(yōu)化大量工藝和 RET 變量，使得工程師一次就能獲得準(zhǔn)確結(jié)果。”

　　與許多傳統(tǒng)產(chǎn)品相比，LithoWare為RET/OPC 工程師和設(shè)計(jì)人員提供了更加方便易用的工具。由于它可幫助 RET/OPC 工程師或設(shè)計(jì)人員快速檢查設(shè)計(jì)或新創(chuàng)意是否違反光刻條件，因而能夠縮短開(kāi)發(fā)周期。這些 RET/OPC 技術(shù)人員無(wú)需等待工藝工程師或代工廠合作伙伴提供專門的工藝信息和結(jié)果。