KLA-Tencor推出先進RET/OPC功能的LithoWare產品

 KLA-Tencor今日正式推出基于 Linux 的新型產品 LithoWare，該系統(tǒng)可幫助半導體電路設計人員大幅度降低 RET* 和 OPC* 工藝開發(fā)的時間和成本。LithoWare是一款基于業(yè)內標準的PROLITH 模型的光刻優(yōu)化工具，它允許客戶同時優(yōu)化 RET 和工藝條件，并將校準數(shù)據采集降至最少，從而有效縮短從設計到生產的時間。

“LithoWare 擁有無可比擬的預測精度以及在 Linux 計算機集群上運行的特性，它為 RET 開發(fā)人員提供了雙項優(yōu)勢?！?a class="contentlabel" href="http://www.ex-cimer.com/news/listbylabel/label/KLA-Tencor">KLA-Tencor Corporation 工藝分析事業(yè)部總經理 Edward Charrier 表示?！癛ET 工程師可利用 LithoWare 獨有的靈活性和預測能力，在探索光刻工藝條件（如：光源照明、最新光刻膠、PEB 和其他等）的同時，優(yōu)化其 OPC。通過 LithoWare，他們還可更快地創(chuàng)建 RET 菜單，并確保其在整個工藝窗口中都能正常工作，從而增強設計的穩(wěn)定性和可生產性。”

目前大多數(shù) EDA 產品運行于Linux/Unix 環(huán)境下，因此同樣基于 Linux 的 LithoWare 可全面兼容這些產品。用戶可通過 LithoWare 裝載 GDSII 文件，選擇多個摸擬區(qū)域，互動改變光照條件和 OPC 修正，并將 OPC 修正后的掩膜圖樣輸出為 GDSII 文件。  

最近的估計表明，32 納米開發(fā)需數(shù)以億計的光刻摸擬計算。LithoWare 運行在 Linux 環(huán)境下，可將大量模擬工作量分布到很多臺計算工作站上進行，從而允許工程師執(zhí)行先進的光刻計算，并探索擴展的工藝參數(shù)，而這些在 PC或其他工具上都是無法實現(xiàn)的，因為它們無法承擔每次變化所帶來的大量重復校準工作。LithoWare 基于 Linux 的架構還可有效利用客戶現(xiàn)有的計算機投資，而無需配置額外的硬件。LithoWare 現(xiàn)已應用于美國和日本的 IC 公司，幫助提升其 RET 開發(fā)效率。 

Charrier先生介紹說：“用于全晶片 RET/OPC 的常規(guī)產品在不同光照情況下預測能力非常有限，而且不支持不斷的工藝變化，它們需要耗時、昂貴的工藝程序，包括掩膜加工、晶片印刷、測量和設備校準等等，這往往需要幾天、幾周甚至幾個月的時間。LithoWare 提供獨有的‘假設分析’功能，可動態(tài)地優(yōu)化大量工藝和 RET 變量，使得工程師一次就能獲得準確結果?！?

與許多傳統(tǒng)產品相比，LithoWare為RET/OPC 工程師和設計人員提供了更加方便易用的工具。由于它可幫助 RET/OPC 工程師或設計人員快速檢查設計或新創(chuàng)意是否違反光刻條件，因而能夠縮短開發(fā)周期。這些 RET/OPC 技術人員無需等待工藝工程師或代工廠合作伙伴提供專門的工藝信息和結果。  
KLA-Tencor 計劃于6月4-9 日在圣地亞哥即將舉行的設計自動化會議(Design Automation Conference 2007)上展示LithoWare。感興趣的用戶可以在 KLA-Tencor 網站上注冊來獲取產品演示，網址是：www.klatencor.com/Events/LithoWare Reception(http://www.kla-tencor.com/events/event/Prolith_SD_2007_regform.html)。