諾發(fā)推出市場(chǎng)認(rèn)可最快的GAMMA Express 系統(tǒng)

     諾發(fā)系統(tǒng)有限公司日前宣布其在2006年美國(guó)西部半導(dǎo)體設(shè)備展覽會(huì)(SEMICON West)上推出的GAMMA®; Express™;系統(tǒng)正在成為該公司歷史上市場(chǎng)認(rèn)可速度最快的產(chǎn)品之一。自 2007 年初以來，公司已接到針對(duì)多款GAMMA Express系統(tǒng)的續(xù)訂訂單，這些系統(tǒng)在亞洲已被領(lǐng)先的半導(dǎo)體制造商應(yīng)用于高級(jí)研發(fā)與生產(chǎn)過程中。GAMMA平臺(tái)采用多站式順序處理(MSSP)技術(shù)，可用于領(lǐng)先存儲(chǔ)器、邏輯器件以及全球代工廠設(shè)備的生產(chǎn)制造，目前每個(gè)月可處理逾一百萬(wàn)片晶圓。諾發(fā)公司已為客戶安裝了250多套系統(tǒng)，在針對(duì)高產(chǎn)能制造的300mm光刻膠去除領(lǐng)域中占據(jù)市場(chǎng)領(lǐng)先地位。 
 
    隨著半導(dǎo)體行業(yè)向高級(jí)技術(shù)節(jié)點(diǎn)過渡，光刻膠去除已成為日益重要的工藝步驟。在高劑量離子注入光刻膠去除(HDIS)的過程中，保持較低的硅氧損失量對(duì)提高晶體管性能至關(guān)重要。GAMMA Express平臺(tái)不僅適用于前道(FEOL)和后道(BEOL)應(yīng)用，同時(shí)還為大容量、高劑量離子注入光刻膠去除提供了最高水平的技術(shù)、可靠性和生產(chǎn)力。因而，該平臺(tái)的擁有成本較低，實(shí)現(xiàn)了對(duì)制造可變性的緊密控制，正常工作時(shí)間超過95%。 
 
    “隨著客戶日益認(rèn)識(shí)到針對(duì)高級(jí)工藝節(jié)點(diǎn)的高效率光刻膠去除技術(shù)的優(yōu)勢(shì)，GAMMA Express正受到廣泛的市場(chǎng)關(guān)注?！?a class="contentlabel" href="http://www.ex-cimer.com/news/listbylabel/label/諾發(fā)">諾發(fā)公司副總裁兼表面整合技術(shù)部總經(jīng)理Kevin Jennings先生表示，“在諾發(fā)公司全球服務(wù)基礎(chǔ)設(shè)施的全面支持下，GAMMA平臺(tái)憑借其高可靠性、高生產(chǎn)力以及技術(shù)上可達(dá)32nm的高度可延伸性，不斷贏得客戶青睞?！?