諾發(fā)推出市場認可最快的GAMMA Express 系統(tǒng)

     諾發(fā)系統(tǒng)有限公司日前宣布其在2006年美國西部半導體設備展覽會(SEMICON West)上推出的GAMMA®; Express™;系統(tǒng)正在成為該公司歷史上市場認可速度最快的產品之一。自 2007 年初以來，公司已接到針對多款GAMMA Express系統(tǒng)的續(xù)訂訂單，這些系統(tǒng)在亞洲已被領先的半導體制造商應用于高級研發(fā)與生產過程中。GAMMA平臺采用多站式順序處理(MSSP)技術，可用于領先存儲器、邏輯器件以及全球代工廠設備的生產制造，目前每個月可處理逾一百萬片晶圓。諾發(fā)公司已為客戶安裝了250多套系統(tǒng)，在針對高產能制造的300mm光刻膠去除領域中占據(jù)市場領先地位。 
 
    隨著半導體行業(yè)向高級技術節(jié)點過渡，光刻膠去除已成為日益重要的工藝步驟。在高劑量離子注入光刻膠去除(HDIS)的過程中，保持較低的硅氧損失量對提高晶體管性能至關重要。GAMMA Express平臺不僅適用于前道(FEOL)和后道(BEOL)應用，同時還為大容量、高劑量離子注入光刻膠去除提供了最高水平的技術、可靠性和生產力。因而，該平臺的擁有成本較低，實現(xiàn)了對制造可變性的緊密控制，正常工作時間超過95%。 
 
    “隨著客戶日益認識到針對高級工藝節(jié)點的高效率光刻膠去除技術的優(yōu)勢，GAMMA Express正受到廣泛的市場關注?！?a class="contentlabel" href="http://www.ex-cimer.com/news/listbylabel/label/諾發(fā)">諾發(fā)公司副總裁兼表面整合技術部總經(jīng)理Kevin Jennings先生表示，“在諾發(fā)公司全球服務基礎設施的全面支持下，GAMMA平臺憑借其高可靠性、高生產力以及技術上可達32nm的高度可延伸性，不斷贏得客戶青睞。”