我國(guó)研發(fā)出“零損傷”兆聲波半導(dǎo)體清洗設(shè)備

　　盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司3月17日在上海舉行的中國(guó)半導(dǎo)體國(guó)際展上展出一臺(tái)12英寸單片兆聲波清洗設(shè)備。這是國(guó)內(nèi)首臺(tái)具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的“零損傷”兆聲波半導(dǎo)體清洗設(shè)備。

　　作為一種新興技術(shù)，近年來兆聲波清洗技術(shù)在半導(dǎo)體清洗設(shè)備中的應(yīng)用越來越廣泛。盛美半導(dǎo)體首席執(zhí)行官王暉博士說，兆聲波能量之所以可以去除顆粒是因?yàn)檎茁暡〞?huì)產(chǎn)生氣穴。這些氣穴能在極表面產(chǎn)生高速流體，從而推動(dòng)微顆粒離開硅片表面。這一過程的關(guān)鍵點(diǎn)在于如何控制兆聲波在硅片表面上的能量。盛美首創(chuàng)的SAPS兆聲波技術(shù)可以精確控制兆聲波的能量，讓氣穴來回放大收縮而不會(huì)內(nèi)爆。SAPS以非常均勻的能量分布以確保有效地去除微顆粒而不會(huì)造成硅片微結(jié)構(gòu)的破壞。