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	下一代技術(shù)
          

          
	
          
    	
          
    	  	
          
              	
                                
          
                  

                                
          
                    
          光刻行業(yè)遭雙重打擊 下一代技術(shù)面臨難題
          
                                                            
            
                    	
          • 　　曾經(jīng)看來大有希望的遠紫外(EUV)光刻技術(shù)面臨著重重困難，193納米沉浸式技術(shù)似乎成為了必然的選擇，但成本高昂，而且很難延伸到16納米節(jié)點以下。半導(dǎo)體光刻工藝正面臨著技術(shù)和成本方面的雙重壓力。  　　半導(dǎo)體光刻工藝面臨技術(shù)和成本壓力  　　光刻行業(yè)正遭到雙重打擊：對用于集成電路生產(chǎn)的遠紫外光刻技術(shù)而言，機會窗口在慢慢關(guān)閉；而最有希望的一項替代技術(shù)即193納米沉浸式光刻技術(shù)卻成本高昂，于是行業(yè)陷入一片混亂當(dāng)中。成本增加會對芯片尺寸的繼續(xù)縮小帶來嚴重的影響。  　　在近期國際
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          • 關(guān)鍵字：
                        光刻行業(yè)  下一代技術(shù)  消費電子  其他IC  制程  消費電子                          
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          下一代技術(shù)介紹
          
      			
          
		      	
          
		      			      			      	您好，目前還沒有人創(chuàng)建詞條下一代技術(shù)!
           
		      	歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對下一代技術(shù)的理解，并與今后在此搜索下一代技術(shù)的朋友們分享。    創(chuàng)建詞條
		      			      	
          
    		
          
  		
          
  		  		  		  		  		        		  		
          
    		
          
      			
          
        			
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