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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 二次成像光刻

二次成像光刻文章進入二次成像光刻技術社區(qū)

KLA-Tencor推出可解決二次成像挑戰(zhàn)的首款計算光刻機

　　KLA-Tencor 公司（納斯達克股票代碼：KLAC）今天推出其領先業(yè)界的最新版計算光刻機 PROLITH 11。這種新型光刻機讓用戶首次得以評估當前的二次成像方案，并以較低的成本針對光刻在設計、材料與制程開發(fā)等方面挑戰(zhàn)，嘗試不同的解決方案。這種新型計算光刻機還支持單次成像和浸沒技術。　　KLA-Tencor 制程控制信息部副總裁兼總經(jīng)理 Ed Charrier 指出：“由于光刻復雜性及實驗成本的大幅增加，電路設計師與芯片制造商不得不面對二次成像光刻所帶來的挑戰(zhàn)。計算光刻已成為控制這
關鍵字： KLA-Tencor 光刻機二次成像光刻

共1條 1/1 1

二次成像光刻介紹

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