二次成像光刻 文章 進(jìn)入二次成像光刻技術(shù)社區(qū)
KLA-Tencor推出可解決二次成像挑戰(zhàn)的首款計(jì)算光刻機(jī)
- KLA-Tencor 公司（納斯達(dá)克股票代碼：KLAC）今天推出其領(lǐng)先業(yè)界的最新版計(jì)算光刻機(jī) PROLITH 11。這種新型光刻機(jī)讓用戶首次得以評(píng)估當(dāng)前的二次成像方案，并以較低的成本針對(duì)光刻在設(shè)計(jì)、材料與制程開發(fā)等方面挑戰(zhàn)，嘗試不同的解決方案。這種新型計(jì)算光刻機(jī)還支持單次成像和浸沒技術(shù)。 KLA-Tencor 制程控制信息部副總裁兼總經(jīng)理 Ed Charrier 指出：“由于光刻復(fù)雜性及實(shí)驗(yàn)成本的大幅增加，電路設(shè)計(jì)師與芯片制造商不得不面對(duì)二次成像光刻所帶來的挑戰(zhàn)。計(jì)算光刻已成為控制這
- 關(guān)鍵字： KLA-Tencor 光刻機(jī) 二次成像光刻
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二次成像光刻介紹
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