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ASML:數(shù)值孔徑0.75超高NA EUV光刻設備2030年登場
- 據(jù)日本媒體報導,光刻機設備龍頭阿斯麥(ASML)執(zhí)行副總裁Christophe Fouquet近日在比利時imec年度盛會ITF World 2023表示,半導體產業(yè)需要2030年開發(fā)數(shù)值孔徑0.75的超高NA EUV光刻技術,滿足半導體發(fā)展。Christophe Fouquet表示,自2010年以來EUV技術越來越成熟,半導體制程微縮至2020年前后三年,以超過50%幅度前進,不過速度可能會在2030年放緩。故ASML計劃年底前發(fā)表首臺商用High-NA(NA=0.55)EUV微影曝光設備(原型制作),
- 關鍵字: ASML NA EUV 光刻設備
遼沈地區(qū)半導體裝備產業(yè)強勢崛起
- 半導體裝備制造產業(yè)是國民經濟的戰(zhàn)略性和先導性產業(yè),10余年間,在國家增強自主創(chuàng)新能力和振興東北老工業(yè)基地等戰(zhàn)略方針的引導下,遼寧半導體裝備制造產業(yè)以沈陽為中心實現(xiàn)了從無到有、從小到大、由弱到強的歷史性轉變:建成了國內首個IC裝備控制軟件平臺和IC裝備專業(yè)孵化器,攻克了多個制約我國半導體設備的生產工藝和關鍵技術,創(chuàng)造了300余項科研成果,成功研制出6-12英寸等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)、勻膠顯影、單片濕法刻蝕和凸點封裝噴涂膠等系列整機設備以及300mm IC生產線自動物料搬運系統(tǒng)、直接驅動真
- 關鍵字: 半導體 光刻設備
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