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          EEPW首頁 >> 主題列表 >> 光學(xué)發(fā)射光譜法

          基于光學(xué)發(fā)射光譜法監(jiān)測(cè)等離子體的光譜峰

          • 海洋光學(xué)(Ocean Optics)長(zhǎng)期以來一直為半導(dǎo)體工藝設(shè)備供應(yīng)商的新材料研究提供強(qiáng)大支持,同時(shí)協(xié)助用戶克服等離子刻蝕、沉積、涂層和清潔等方面的困難和挑戰(zhàn)。海洋光學(xué)的光譜儀,基于光學(xué)發(fā)射光譜技術(shù),被廣泛應(yīng)用于等離子體監(jiān)測(cè),并在刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)方面表現(xiàn)出色。實(shí)驗(yàn)配置:實(shí)驗(yàn)采用光學(xué)發(fā)射光譜(OES)方法,分別使用紫外波段的ST微型光譜儀、通用型SR4光譜儀以及高分辨率的HR4和HR6光譜儀進(jìn)行測(cè)試。所有光譜儀均配置了25μm的狹縫,積分時(shí)間設(shè)定為1秒,平均次數(shù)設(shè)置為1,滑動(dòng)平均設(shè)置在0-1之間。根據(jù)具體使用情
          • 關(guān)鍵字: 光學(xué)發(fā)射光譜法  等離子體  海洋光學(xué)  
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          光學(xué)發(fā)射光譜法介紹

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