光學(xué)缺陷檢測 文章 進(jìn)入光學(xué)缺陷檢測技術(shù)社區(qū)

KLA發(fā)布全新缺陷檢測與檢視產(chǎn)品組合

• 加利福尼亞州米爾皮塔斯，2019年7月9日- KLA公司（納斯達(dá)克股票代碼：KLAC）今日發(fā)布392x和295x光學(xué)缺陷檢測系統(tǒng)和eDR7380?電子束缺陷檢視系統(tǒng)。這些全新的檢測系統(tǒng)是我們公司旗艦產(chǎn)品系列——圖案晶圓平臺的進(jìn)一步拓展，其檢測速度和靈敏度均有提升，代表了光學(xué)檢測的新水準(zhǔn)。全新電子束檢視系統(tǒng)的創(chuàng)新使其自身價值進(jìn)一步穩(wěn)固，并成為缺陷和發(fā)現(xiàn)其產(chǎn)生根源之間的必要一環(huán)。對于領(lǐng)先的3D NAND、DRAM和邏輯集成電路（IC），該產(chǎn)品組合將縮短整個產(chǎn)品周期，加快其上市時間?！盀榱擞欣麧櫟刂圃煜乱淮鷥?nèi)存
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