光掩膜檢測(cè)系統(tǒng) 文章進(jìn)入光掩膜檢測(cè)系統(tǒng)技術(shù)社區(qū)

KLA-Tencor推出業(yè)內(nèi)首套45納米光掩膜檢測(cè)系統(tǒng)TeraScanHR

　　KLA-Tencor宣布推出 TeraScanHR 系統(tǒng) – 業(yè)內(nèi)首套新一代 45 納米生產(chǎn)級(jí)光掩膜檢測(cè)系統(tǒng)。45 納米及以上節(jié)點(diǎn)生產(chǎn)中缺陷尺寸小，并采用極為復(fù)雜的 OPC*，這要求檢測(cè)設(shè)備具有極高的分辨率，TeraScanHR 滿(mǎn)足了這一要求，同時(shí)大大改進(jìn)了生產(chǎn)效率，客戶(hù)不僅可以獲得 45 納米關(guān)鍵層生產(chǎn)的最高靈敏度，而且還可降低非關(guān)鍵層和芯片生產(chǎn)的單位檢測(cè)成本。　　“我們新的 TeraScanHR 系統(tǒng)為光掩膜制造商帶來(lái)了非凡的新技術(shù)和經(jīng)濟(jì)效益，可有效降低多代光掩膜生產(chǎn)的成本，其中包括異常復(fù)
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